離子波10 PVA TePla氣體等離子系統

離子波10 PVA TePla氣體等離子系統

離子波10等離子系統是我們最新的微波等離子體技術的進步。這種成本低,中型晶圓批次ASHER具有先進功能的設計,針對小規模的代工企業,大學和創業公司的需求。

離子波10配備了新的,先進的組件和軟件,能夠精確地控制加工參數狀態。其過程的監控和數據採集軟件允許為最嚴格的質量控制。這項技術已成功用於功率晶體管,模擬設備,傳感器,光學器件,光電子,MEMS / MOEMS,生物設備等。

佔地面積小的離子波10需要最小的實驗室空間,並提供簡單的安裝和維護。本系統採用微波等離子體技術,高光阻灰化率,以最小的接觸靜電放電(ESD)。

特點

離子波10等離子氣體系統的主要功能包括:

  • 小腳印桌面設計
  • 一個石英室,最多可容納 8“晶圓和石英船載 to25,6”晶圓
  • 工業電腦與 Windows ®為基礎的系統
  • 圖形用戶界面(GUI)軟件符合SEMI E95 - 1101
  • 用戶訪問控制,發展過程和維修編程
  • 通過以太網進行遠程過程監控
  • 內建的診斷功能和報警記錄
  • 配方編輯器提供了快速,靈活的參數控制
  • 10.4“液晶顯示器(LCD)觸摸屏和鍵盤
  • 配方編輯器模擬器軟件
  • 在線網絡仿真,培訓和支持
  • 即插即用安裝

典型應用

離子波10等離子氣體系統通常用於:

  • 照片脫膠
  • 晶圓 descum
  • 晶圓清洗之前,濕蝕刻
  • SU - 8去除
  • 鈍化層的蝕刻
  • 故障分析設備解封
  • 清洗和表面活化
  • 低溫灰化材料化學跟踪分析
  • 清潔過濾器和膜

Last Update: 21. October 2011 14:34

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