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PVA TePla によるイオン 40 ガス血しょうシステム

イオン 40 は真空血しょう技術の私達の最新の進歩です。 ガス血しょうは速い私達の環境が多様性および低い影響に原因で生命科学の、電子および産業競技場の材料の表面の修正のための選択の技術になることです。 例えば、医学の診断の小型化の方の傾向は精清浄化および選択的な化学 functionalization を必要とします。 血しょうは有機性汚染を複数の一桁処理するぬれた化学薬品より効率的に取除き、 nano スケールで化学的に表面を functionalize できます。 その結果、血しょうはもはや実用的または経済的ではないより古いタイプの処置を取り替えています。

私達の顧客の展開の要求に応じることを設計しま彼らの表面処理の必要性のための多様性そして制御を強調します。 その進んだ機能は最新式のプロセス制御の、起爆安全装置のシステムアラームおよびデータキャプチャのソフトウェアを提供します。 これはシステムが生命科学工業の厳しい品質管理プログラムに合うことを可能にします。 イオン 40 はコンパクト (RF)で無線周波によって生成される血しょう、十分に統合されたパッケージを使用します。 そのベンチの上デザインは実験室または生産環境の容易なインストールを可能にします。

機能は下記のものを含んでいます:

  • 中型の複雑な 3D 部品または大量の小さい部分の処理のためのさまざまな電極構成を取り扱うことができる完全に設定可能な区域
  • Windows® の産業コンピュータはシステムを基づかせていました
  • グラフィカルユーザーインタフェースの (GUI)ソフトウェアは CFR のタイトル 24 の部品 11 および半 E95-1101 に従います
  • 別のプロセスのためのユーザーのアクセス制御
  • 開発、オペレータおよび維持プログラミングおよび制御
  • 設定可能なプロセス許容は精密なロットにロットの反復性を許可することを制御します
  • イーサネットによる遠隔統計的なプロセス制御モニタリング
  • 内蔵の診断機能およびアラーム記録
  • 調理法エディターは速く、多目的なステップ制御機能性を提供します
  • 液晶表示装置の (LCD)接触パネルおよびキーボード

Last Update: 11. January 2012 06:21

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