Synthèse
Le système de lithographie de faisceau d'électrons de Vistec SB250 a été conçu pendant qu'un outil universel et rentable pour des les deux dirigent écrivent et masquent faire des demandes pour permettre aux abonnées de réagir rapidement aux exigences du marché.
Avec ses 210 x 210mm que le domaine de course de stade il est l'outil idéal pour exposer des masques jusqu'à 7 avancez-vous petit à petit et des disques jusqu'au diamètre de 200 millimètres.
Le concept du SB250 active traiter et exposition des matériaux transparents et non transparents de semi-conducteur composé. L'architecture de système modulaire permet à votre SB250 d'être facilement mis à jour à une performance plus élevée d'outil.
La petite empreinte de pas de cleanroom et traiter entièrement robotisé du substrat ainsi que l'opération et le logiciel de pointe de préparation de données vous convaincront que de l'excellence de la Suite SB250 faisant partie du jeu d'outils modulaire Vistec offre à ses abonnées de l'industrie et du secteur appliqué de recherches.
Les VSB (Poutre Formée Variable) rodés en clientèle, la « Écrire-sur-le-Mouche » et les modes d'écriture d'Échographie de Vecteur ainsi que le fléau de la former-poutre 50keV sont d'autres points culminants de la Suite SB250 neuve.
Fonctionnalités Clé
Pour répondre aux besoins spécifiques de nos abonnées les caractéristiques techniques suivantes sont éventuellement disponibles :
- Tailles Variées et types de substrat supportés par le substrat entièrement robotisé traitant comprenant le pré-cadrage de substrat
- Écriture À Multipassage
- MDSP (Progiciel De Dépistage de Note) comprenant la zone d'image métrique
- Station de préparation de données de Disposition couvrant jusqu'à 256 Cores du CPU pour :
- rupture
- Correction supplémentaire plus d'Effet de Proximité (PROXECCO) et voilage des options de correction
- Interface Utilisateur Graphique (GUI) conforme SEMI à E95
- Réseau d'Adresse vers le bas à 1nm