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Sistema di Litografia del Fascio di Elettroni - Vistec SB250

Generalità

Il sistema della litografia del fascio di elettroni di Vistec SB250 è un redditizio e lo strumento universale per sia la produzione delle maschere che diretto scrive le applicazioni per permettere ai clienti di rispondere rapidamente alle domande del mercato. Il sistema ha un intervallo di viaggio della fase di 210mm x di 210 gli che rende uno strumento adatto per l'esposizione le maschere fino a 7inch e dei wafer fino ad un massimo di 200mm di diametro.

Lo SB250 permette all'esposizione ed alla manipolazione dei materiali non trasparenti e trasparenti a semiconduttore composto. L'architettura di sistema modulare permette allo SB250 di essere migliorata facilmente ad un'più alta prestazione dello strumento.

La manipolazione completamente automatizzata del substrato, l'orma piccola della stanza pulita ed il di gestione ed il software specializzati del preparato di dati sono prova in modo convincente della Serie SB250 che fa parte degli strumenti modulari Vistec stanno offrendo ai sui clienti dall'industria e dal settore applicato della ricerca.

I punti culminanti Supplementari di nuova serie SB250 sono il Raggio A forma di variabile campo-provato (VSB), “Scrivere-su--Mosca„, modi di scrittura di Scansione di Vettore e la colonna del a forma di-raggio 50keV.

Caratteristiche Fondamentali

Le caratteristiche fondamentali della Serie SB250 facoltativamente disponibile per soddisfare le richieste specifiche dei sui clienti includono:

  • Un intervallo delle dimensioni e dei tipi del substrato di supporto dal substrato completamente automatizzato che tratta compreso l'pre-allineamento del substrato. 

  • Scrittura A Più Stadi. 

  • Pacchetto Di Programmi Di Rilevazione di Segno (MDSP) compreso la metrica del campo di immagine. 

  • Stazione del preparato di dati della Disposizione che riguarda fino a 256 memorie del CPU per la frattura come pure la Correzione supplementare di Effetto di Prossimità (PROXECCO) e l'annebbiamento delle opzioni di correzione. 
  • Interfaccia Grafica (GUI) compiacente ai SEMI E95. 

  • Griglia di Indirizzo giù a 1nm. 

Last Update: 12. September 2013 11:00

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