Generalità
Il sistema della litografia del fascio di elettroni di Vistec SB250 è stato progettato mentre uno strumento universale e redditizio per gli entrambi dirige scrive e maschera fare le domande per permettere che i clienti reagiscano rapidamente alle domande del mercato.
Con il suo intervallo di viaggio della fase di 210mm x di 210 spetta lo strumento ideale per l'esposizione le maschere ad a 7 pollici e dei wafer fino ad un diametro da 200 millimetri.
Il concetto dello SB250 permette alla manipolazione ed all'esposizione dei materiali trasparenti e non trasparenti a semiconduttore composto. L'architettura di sistema modulare permette che il vostro SB250 sia migliorato facilmente ad un'più alta prestazione dello strumento.
La piccola orma del locale senza polvere e la manipolazione completamente automatizzata del substrato come pure il di gestione ed il software avanzati del preparato di dati vi convinceranno che dell'eccellenza della Serie SB250 che fa parte degli strumenti modulari Vistec stia offrendo ai sui clienti dall'industria e dal settore applicato della ricerca.
I VSB (Raggio A Forma Di Variabile) campo-provati, “la Scrivere-su--Mosca„ ed i modi di scrittura di Scansione di Vettore come pure la colonna del a forma di-raggio 50keV sono ulteriori punti culminanti di nuova Serie SB250.
Caratteristiche Fondamentali
Per soddisfare le richieste specifiche dei nostri clienti le seguenti funzionalità sono facoltativamente a disposizione:
- Varie dimensioni e tipi del substrato di supporto dal substrato completamente automatizzato che tratta compreso l'pre-allineamento del substrato
- Scrittura A Più Stadi
- MDSP (Pacchetto Di Programmi Di Rilevazione di Segno) compreso il campo di immagine metrico
- Stazione del preparato di dati della Disposizione che riguarda fino a 256 memorie del CPU per:
- frattura
- Correzione supplementare più di Effetto di Prossimità (PROXECCO) ed annebbiare le opzioni di correzione
- Interfaccia Grafica (GUI) compiacente ai SEMI E95
- Griglia di Indirizzo giù a 1nm