電子ビームリソグラフィシステム - Vistec SB250

概要

Vistec SB250 の電子ビームリソグラフィシステムは費用有効であり、マスクの生産のためのユニバーサルツールはおよび直接顧客が市場の需要にすぐに答えることを可能にするようにアプリケーションを書きます。 システムに直径で 7inch までそれにマスクおよび 200mm までウエファーを露出するための適したツールをする 210 x 210mm の段階旅行範囲があります。

SB250 は非透過および透過化合物半導体材料の露出そして処理を可能にします。 モジューラシステムアーキテクチャは SB250 が容易により高いツールパフォーマンスにアップグレードされることを可能にします。

完全に自動化された基板の処理、小さいクリーンルームの足跡および洗練された操作およびデータ準備のソフトウェアは企業および応用研究のセクターからの顧客にモジュラーツール・セット Vistec の部分である SB250 シリーズの説得力のある証拠提供していますです。

新しい SB250 シリーズの追加ハイライトは実証済みの可変的型のビーム、 (VSB) 「書はえ」、ベクトルスキャンライト・モードおよび 50keV 整形ビームコラムです。

主要特点

顧客の特定の条件を満たす使用できる任意選択で SB250 シリーズの主要特点は下記のものを含んでいます:

  • 基板の前アラインメントを含んで扱う完全自動化された基板によってサポートされる基板のサイズおよびタイプの範囲。 

  • 複数パス執筆。 

  • 画像フィールド測定基準を含む (MDSP)マーク検出のソフトウエアパッケージ。 

  • 訂正オプションをぼやかす折ること、また追加近さ効果の訂正 (PROXECCO) ための 256 までの CPU のコアをおよびカバーするレイアウトデータ準備端末。 
  • 半 E95 に (GUI)対応グラフィカルユーザーインタフェース。 

  • アドレス格子 1nm に。 

Last Update: 12. September 2013 11:00

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