Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

Het Systeem van de Lithografie van de Elektronenstraal - Vistec SB250

Overzicht

Het Vistec SB250 systeem van de elektronenstraallithografie is een rendabel en universeel hulpmiddel als direct voor zowel de productie van maskers schrijft toepassingen om klanten toe te laten om snel aan markteisen te antwoorden. Het systeem heeft 210 x 210mm de waaier die van de stadiumreis tot het maakt een geschikt hulpmiddel om maskers tot 7inch en wafeltjes tot 200mm in diameter bloot te stellen.

SB250 laat blootstelling en behandeling van de ondoorzichtige en transparante materialen van de samenstellingshalfgeleider toe. De modulaire systeemarchitectuur laat dat SB250 toe gemakkelijk worden bevorderd aan hogere hulpmiddelprestaties.

De volledig geautomatiseerde substraat behandeling, de kleine schone ruimtevoetafdruk en de verfijnde het werken en gegevensvoorbereidingssoftware zijn overtuigend het bewijsmateriaal van de Reeks SB250 die deel van modulaire toolset Vistec aan zijn klanten van de industrie en de toegepaste onderzoeksector aanbiedt uitmaakt.

De Extra hoogtepunten van de nieuwe reeks SB250 zijn de gebied-bewezen veranderlijk-Gevormde Straal (VSB), „schrijven-op-de-Vlieg“, Vector het schrijven van het Aftasten wijzen en de 50keV vormen-straalkolom.

Zeer Belangrijke Eigenschappen

De belangrijkste eigenschappen van de naar keuze beschikbare Reeks SB250 om aan de specifieke behoeften van zijn klanten te voldoen omvatten:

  • Een waaier van substraatgrootte en types die door volledig-geautomatiseerde substraat wordt gesteund met inbegrip van substraat pre-groepering te behandelen. 

  • Het Multipass schrijven. 

  • Het Pakket van de Software van de Opsporing van het Teken (MDSP) met inbegrip van de metriek van het beeldgebied. 

  • De post die van de de gegevensvoorbereiding van de Lay-out tot 256 kernen van CPU voor het breken evenals de extra opties van het Effect van de Nabijheid van de Correctie (PROXECCO) behandelt en het vertroebelen van de correctie. 
  • Grafisch Gebruikersinterface (GUI) Volgzaam aan SEMI E95. 

  • Het net van het Adres neer aan 1nm. 

Last Update: 12. September 2013 11:00

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask the manufacturer of this equipment or can you provide feedback regarding your use of this equipment?

Leave your feedback
Submit
Other Equipment by this Supplier
Other Equipment