Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

Система Подготовки Образца Резца Наклона Луча Иона - EM TIC 3X от Leica

Достигать высокомарочных профилей почти любого материала, показывая внутренние структуры образца с вряд любыми деформацией или повреждением не был никогда перед удобным чем теперь, используя EM TIC 3X Leica.

Втройне Резец Луча Иона, EM TIC 3X Leica позволяет продукции поперечных сечений крепко/мягкий, пористый, теплочувствительный, хрупкий и несродный материал для Просматривая Электронной Микроскопии (SEM), Анализ Микроструктуры (EDS, WDS, Сверло, EBSD) и, исследования AFM.

3 (индивидуально контролируемый) ионного луча, охлаждая этап и множественный этап образца обеспечивают филировать на высоких темпах, резать обширный и глубокий в образец приводящ к в высокомарочных профилях.

Характеристики

Характеристики системы подготовки образца электронного кинескопа EM TIC 3X Leica включают:

  • Представление Верхн-Тарифа
    Уникально Втройне Система Луча Иона оптимизирует качество профиля и уменьшает рабочее временя с своей способностью отрезать обширное и глубокое на быстрых ходах. До 3 образца можно обрабатывать в одной встрече. Это делает EM TIC 3X Leica совершенная аппаратура для максимума через-положила лаборатории.
  • Конфигурируемая Система
    В зависимости от ваших потребностей подготовки EM TIC Leica 3X может быть установлен индивидуально путем использование заменимых этапов - Стандартного этапа, Множественного этапа образца или Охлаждать этап
  • Охлаждая Этап
    Обрабатывать Высокомарочной, низкой температуры теплочувствительных образцов как резиновые и водорастворимые волокна полимера может быть подготовлен путем охлаждать вниз держатель и маску образца к C. -150°.
  • Держатели Образца
    Различные держатели образца для почти каждого размера выборки
  • Ясное Визуализирование Топографии Ssurface
    В дополнение к вырезыванию наклона, такой же держатель можно использовать для очищать и усиления контраста.

Система EM TIC 3X Филируя от Микросистем Leica - минут Продолжитеных По Времени 4:19

Last Update: 9. December 2013 19:35

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask the manufacturer of this equipment or can you provide feedback regarding your use of this equipment?

Leave your feedback
Submit
Other Equipment by this Supplier
Other Equipment