光致發光（或PL）是一種光譜技術是半導體材料的電學和光學性質，如帶隙，發光波長，結晶度和晶體結構，缺陷等，提供信息..
一個 PL Mapper是一個基於激光的儀器，用於測量高於其帶隙能量激發光材料的發光排放在整個晶圓的幾個參數來生成地圖。
HORIBA Jobin Yvon公司的PL測繪系統在生產環境中使用，提供外延層晶體質量，成分和同質化的關鍵信息。
HORIBA Jobin Yvon公司的光致發光測繪系統，也用於如獲取的光致發光圖像的設備，或納米材料的研究導向的工作，也可以用在其他配置，如拉曼光譜。
所有的系統都能夠從深紫外光（〜200納米）到紅外（幾微米）使用多個探測器測量的光致發光和拉曼光譜。
LabRAM ARAMIS - PL光致發光測繪系統也可用於：
- 微PL，在亞微米尺度的光致發光
- 碳納米管的光致發光研究
- 如氮化鎵（GaN）納米線或矽（Si）納米線的納米材料的映射
- 光致發光和拉曼的III - V設備，如鋁砷化鎵 /砷化銦鎵二極管
- 拉曼光譜和光致發光的半導體研究
- 低溫光致發光（PL）