Gatan Ilion™+是在平面横断面的准备的重大的预付款从困难范例的微观想象和微量分析的。 Ilion+ 设计在证明的 GatanPIPS™ (精确度离子擦亮的系统) 基础上。 此现场以证实，稳健平台表示工业标准在清楚的离子束性能，并且与千位的可靠性部件安装了得全世界。 这个系统是容易安装和运行允许用户开始迅速做范例。
背景
在纳诺设计的材料的革命产生要素和化合物的新的组合。 许多新的物质组合是任一个异乎寻常的阶段混合物 (综合) 或层状薄膜结构 (设备) 该使用组件纳诺材料的期望属性用导致非常产品的方式。 使用 SPM、 TEM 和 SEM，要了解组件材料的空间的关系和纳诺结构上的排列，研究员必须查看他们在这个分子或基本级别。
越来越多地，在多元状况和多层的薄膜用于的异乎寻常的材料的组合不是非常合适的对机械擦亮也不轻击碾碎。 当困难或易碎的材料破裂或流洒微粒到相邻的地区时，软的材料倾向于抹上或变得分成细层从这个相邻的结构。 这个结果是功能的真的排列的一个不可接受的改变。 同样对谨慎谷物或阶段可能由擦亮的，有效毁坏的重要空间的信息和引入化工反常现象剪切力误解影响随后的 EDX 或表面分析结果的综合是真的。