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Sistema TFS 200R della Pellicola Sottile per Ricerca Continua di Modo ALD da Beneq Oy

Il Beneq TFS 200R è il sistema mai visto progettato per la ricerca nel deposito atomico del livello del Rotolo--Rotolo (ALD) ed in altri moduli di ALD (CALD) continuo. Il TFS 200R è usato esclusivamente per il deposito delle pellicole sottili sui substrati flessibili. Per la prima volta in cronologia di ALD, il TFS 200R permette alla ricerca nel comportamento dinamico di varie chimiche del precursore, di simulazione dell'idoneità trattata e della valutazione della prestazione della pellicola nelle applicazioni del Rotolo--Rotolo ALD.

Nel TFS 200R, il substrato flessibile è fisso su un cilindro di rotazione all'interno della camera della reazione. Il cilindro stesso è circondato da una serie di ugelli lineari, ciascuno che crea una regione isolata del gas sopra il di grande ampiezza del substrato. Mentre il cilindro è girato, il substrato attraversa le regioni differenti del gas ed è rivestito.

Il Beneq TFS 200R, con la sua struttura robusta e modulare, è destinato per soddisfare oggi sia gli standard industriali che le richieste della flessibilità della ricerca. I contenitori del Precursore sono convenientemente piccoli e possono essere cambiati facilmente. Secondo i bisogni trattati, il TFS 200R può essere fornito di fino a 2 fonti di calore, il tipo il HS 80 e/o il HS 180. Ulteriormente, il sistema può essere fornito di fino a 8 condotte di gas e di fino a 4 sorgenti liquide.

Punti culminanti di Prestazione
  • Tariffa di deposito della pellicola Sottile fino a 100 nm/min
  • Il substrato Mobile, Web si accelera a 300 m/min
  • Strumenti della registrazione come pure di tendenza di dati di capacità e di Alta velocità per l'interfaccia a macchina umana (HMI).
  • camera di vuoto della Freddo-Parete per il riscaldamento ed il raffreddamento rapidi
  • Le porte Ausiliarie dell'entrata nella camera di vuoto permettono ai sistemi diagnostici in situ ecc
  • Il substrato ed il gas Heated alimentano l'assembly per la temperatura del substrato e la prevenzione costanti di condensazione del precursore
  • Classe 100 (compatibilità del locale senza polvere di ISO 5)
  • La configurazione di sorgente del precursore tiene conto cambiamento facile e inerte dei precursori

Last Update: 11. January 2012 04:42

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