Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

DME Navigator 220 - het Hoge Stadium SPM/AFM van de Herhaalbaarheid

Met DualScope™ verstrekt 95 SPM scannerreeks, DME de uiteindelijke eenmaking van handigheid en prestaties. Zijn de duurzame ervaring van een decennium op het gebied van toepassing SPM en de productie verenigd in DS 95 scanners SPM om de gebruiker te helpen de beste en betrouwbaarste resultaten in de kortste mogelijke periode bereiken.

  • Het compacte ontwerp van DualScope™ 95 scanner SPM waarborgt opmerkelijke stabiliteit en aftastentarieven.
  • De unieke gebruiksklare cantileveruitwisseling beveiligt snelle en veilige verrichting van het instrument.
  • Een geïntegreerde optische as in de scanner SPM verstrekt totale visuele controle tijdens benadering en het plaatsen.
  • DualScope™ 95 scanner SPM verstrekt de faciliteiten voor alle gemeenschappelijke en geavanceerde wijzen SPM.
  • De Geïntegreerde elektronika in het aftastenhoofd waarborgt laagste lawaaiwaarden op elektrowijzen SPM.
  • DualScope™ 95 multi zet toestaat installatie van DualScope™ 95 scanner SPM in DME stadia en andere faciliteiten zoals nanoindenters, optische microscopen, enz. op

Aangezien de DME Navigator 220™ werd vrijgegeven, zal de verklaring „U nooit opnieuw vinden deze vlek met uw AFM“ niet meer waar is. DME DS 95 Navigator 220™ laat toe om één en het zelfde gebied opnieuw te onderzoeken zelfs daarna het verwijderen van de steekproef uit AFM. Gebaseerd op verwijzing structureert het systeem vindt het aandachtsgebied met een precisie betere toen 250nm.

De gehele het plaatsen vooruitgang is volledige automatisch en hoogst stabiel en daardoor perfect om veelvoudige structurele eigenschappen op één enkele steekproef in metingslooppas te analyseren op lange termijn en nachtelijke. Vergeleken bij interferometer gebaseerde plaatsende systemen wordt de investeringsinspanning dramatisch verminderd door vergelijkbare prestaties te verstrekken. De belangrijkste toepassingsgebieden zijn kwaliteitsbeheersing van e-straal lithografie, lithografiemaskers, nanoimprints en analyse van multistep processen zoals functionalisation van oppervlakten, CNTs, nano deeltjes, de groei van quantumpunten en dunne lagen/films enz.

Last Update: 15. July 2013 04:39

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask the manufacturer of this equipment or can you provide feedback regarding your use of this equipment?

Leave your feedback
Submit
Other Equipment by this Supplier
Other Equipment