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TA の器械からのフラッシュ拡散係数システム

TA の器械は広い温度較差上の温度伝導率を測定するための器械の範囲を提供します (- 150 から 2800°C)。 モジュラーアーキテクチャは多分種類の発見のフラッシュプラットホームに最も適用範囲が広いシステムをします。 それは他の炉の付加が変更の必要性と育つように後日し私達の前任者の会社が開拓するすべてのモデルのための多重標本のテストオプションを Anter Corporation 含んでいます。 この機能は生産性で数回しか増加しましたり、またします任意選択比熱容量の測定をより信頼できるように作り出しませんが。

発見のフラッシュシステム構成

モジュールのクリックによってシステムか左に構成を設定して下さい。 発見のフラッシュシステムは環境のモジュールによって原始モジュールを組み合わせることによって設定されます。 原始モジュールはエネルギーパルスソース、高速キセノンの排出ランプ (HSXD)かレーザー、データ収集システムおよび温度調整の要素を含んでいます。 環境のモジュールは炉、標本のホールダーを含んでいて、メカニズムおよび温度の探知器の指標をつけます。 原始モジュールおよび環境のモジュールの多重組合せは標本、温度較差および予算によって最も適切な構成を、提供して使用できます。 私達の benchtop 構成は分の転換が付いている環境のモジュールの範囲を取り扱うことができます。 私達の支えがない DLF-2 レーザーソースのモジュールは移動式で、環境のモジュール近くにクラスタ整理に容易に置くことができます。


Last Update: 15. August 2012 09:12

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