FEI V600CE 集中的离子束 (FIB)系统

V600 系列包括最高效,灵活,并且有效电路编辑工具可用为半导体实验室。 他们启用快速,多才多艺的修改和分析与有效提供高处理量电路 (FIB)修改,跨区分和故障分析的单排,集中的离子束。 V600 系列包括硬件,并且解决先进的电路的软件扩展名编辑需求在 65 毫微米以下,提供最有效的解决方法的立即和将来的需求。

好处和功能

以 FEI 的最先进的 30 kV 为特色, 5 毫微米响尾蛇离子列, V600 系列的每位亲属至尊有能力在高分辨率想象上,碾碎,和快速存取对在各种各样的材料的表层下功能。 当高电流运算保证迅速物质删除和增加的范例处理量时,低压运算的中间列指点使在 TEM 范例鳞片的故障减到最小。

新的 V600CE 以 NanoChemix 气体送货系统为特色传送更加先进编辑功能。 它是在这个市场上的最多才多艺的气体送货系统,使小谎运算符施加各种各样的气体可变的压无敌程序控制和优化的。 这个能力通过双重,反对的喷管混和气体为绝缘编辑的重要区域提供优秀品质电介质证言材料。 双重喷管基于发运为维护的楼层均一或 planarity 也是无价的,当存取设备的更低的金属层时。 这五气体 FEI NanoChemix 气体送货系统支持发运更加先进的编辑功能:

  • XeF2 - 电介质 (SiO2) 和低k 的铭刻
  • H2O (O2) - 有机物和铜剪切的铭刻
  • Cl2 - 铝和硅的铭刻
  • TMCTS - 装绝缘体工证言 (SiO2) 与 O2
  • 钨 Hexacarbonyl - 钨证言

V600CE 包括改进编辑精确度的电路,并且结束指向控制增量电路请编辑成功率的先进的软件。

扩大 V600CE 的功能与红外线显微镜和批量 Si 槽探程序包的。 一个最近的红外显微镜通过前方电介质和后侧方批量硅允许目标结构想象快速,准确定位的。 批量硅槽探硬件包括加速更加快速存取的批量硅蚀刻到电路从后侧方的特殊同轴气体发运喷管。

应用

V600CE 是下列应用的非常好的执行者:

  • 半导体和数据存储
    • 电路编辑
    • 故障分析
    • 缺陷分析
    • 3D 计量学
  • 研究
    • 材料和范例准备
    • Nanoprototyping

Last Update: 23. April 2013 01:09

Ask A Question

Do you have a question you'd like to ask the manufacturer of this equipment or can you provide feedback regarding your use of this equipment?

Leave your feedback
Submit
Other Equipment by this Supplier
Other Equipment