CVD Equipment Corporation は太陽およびエネルギーのための EasyTube システムをもたらします

Published on February 19, 2009 at 6:16 PM

CVD Equipment Corporation (NASDAQ: CVV は) 目指す太陽およびエネルギーフィールドの次世代プロセス開発のための品質管理の焦点が付いている EasyTube™システムの系列の導入をおよび研究及び開発発表しま石油およびガスへの全体的な依存を減らします。 EasyTube™のプラットホームは次世代の太陽電池/モジュールおよびスマートな Windows の商業化を加速するのに必要とされるいろいろ薄膜プロセス条件に効率的にカスタマイズされてすぐにありそして要することができる解決のフレームワークを提供します。

太陽および半導体工業 (http://www.cvdequipment.com/ET3000_SiQC 1 12.pdf) のためにケイ素の前駆物質材料を修飾するために例えば、 EasyTube™私達の 3000-SiQC システムは販売されました。 これらのシステムは多結晶性ケイ素の棒を製造するのに使用される Chlorosilane の前駆物質の品質管理のために使用されます。 純度のために測定されるエピタキシアルフィルムを沈殿させるのに同じ前駆物質の使用によって、ケイ素の前駆物質材料の純度は断固としたである場合もあります。 この品質管理のツールはほんの少しだけ減らされた光起電変換効率の太陽電池を製造するために提案される Polysilicon の前駆物質のための低価格の製造方法の開発を助けます。

さらに、 EasyTube™の研究システムは他のフィルムの沈殿、次世代のケイ素および CIGS の太陽電池のプロセス最適化のために必要とされる例えば無定形のケイ素、 Polysilicon、窒化珪素、高いですまたは低温の二酸化ケイ素、ケイ素およびケイ素ゲルマニウムのエピタキシアルの、透過伝導性の酸化物 (SnO2、 ZnO、等)、 Sulfurization、 Selenization、急速な熱アニーリング、 POCl3 および他の関連の拡散によって運転されるプロセスが可能です。 EasyTube™システムはいろいろオプションと、高いですか低圧の Loadlock を含んで、操作、沈殿および構成の均等性のための基板の回転、急速な暖房および多くの他装備することができます。 EasyTube™プロセスガスの処理システムは pyrophoric、可燃性、腐食性、有毒な、固体および液体の根本資料を取り扱います。 任意選択ガス、液体または固体ソース配達およびプロセスガスの排気の処置は時間およびお金を両方貯めるターンキープロセス解決を可能にします。

大成功の EasyTube™の製品種目は大学に世界的に販売され、ナノテクノロジーおよび半導体のアプリケーションのための研究所は市場を研究します。 拡大された EasyTube™の製品種目は太陽およびエネルギー産業のアプリケーションに低価格の研究および太陽およびエネルギー関連の製造工程を開発するためにより速い配達を提供するために焦点を合わせます。

Last Update: 14. January 2012 07:39

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