LOI Estableció el Marco para el Nuevo Nivel de Colaboración Entre SEMATECH y TOK en Tecnologías de la Generación Siguiente EUVL

Published on February 24, 2009 at 8:18 AM

SEMATECH, un consorcio global de fabricantes de chips, anunciado hoy que ha firmado un Memorándum De Acuerdo (LOI) Con Tokio Ohka Kogyo Co., Ltd. (TOK), fabricante de cabeza de fotoprotecciones, estableciendo la base para un acuerdo del desarrollo conjunto en esfuerzos colaborativos de optimizar y de desarrollar los nuevos materiales avanzados de la proyección de imagen para la litografía ultravioleta (EUV) extrema.

Pues una pieza del Oponer del programa de la litografía de SEMATECH, TOK colaborará con los expertos en el EUV de SEMATECH Resista y el Centro de Desarrollo de los Materiales (RMDC) en la Universidad de la Ciencia y de la Ingeniería (CNSE) de Nanoscale de la Universidad en Albany para desarrollar y para demostrar la fotoprotección avanzada de EUV para el uso en el nodo de 22 nanómetro y más allá.

“Este LOI estableció el marco para un nuevo nivel de colaboración entre SEMATECH y TOK en tecnologías de la generación siguiente EUVL,” dijo a Juan Warlaumont, vicepresidente de las tecnologías avanzadas, SEMATECH. “Creemos que la capacidad y la experiencia de TOK combinado con la experiencia de SEMATECH en la fotoprotección de EUV acelerarán nuestro progreso en abordar los retos dominantes - tales como resolución, tosquedad del grosor de línea, y colapso del modelo - en el área crítica de la proyección de imagen avanzada.”

“Como las capacidades de calidad mundial de la investigación y desarrollo en el UAlbany NanoCollege active los avances críticos en tecnología de EUV, la adición de TOK a la sociedad de SEMATECH-CNSE servirá aumentar y desplegar esos esfuerzos,” dijo a Richard Brilla, vicepresidente para la estrategia, las alianzas y los consorcios en CNSE. “Nos encantan para dar la bienvenida a TOK a Albany NanoTech de CNSE, en donde ensambla el número creciente de los socios de la corporación mundiales que reconocen el liderazgo global de Nueva York en la educación del nanoscale, la innovación y el revelado económico.”

Durante el último año, los avances importantes en EUV resisten han sido activados por el EUV RMDC de SEMATECH a través de sus herramientas de dos micro-exposiciones (METs) situadas en el CNSE y en el Laboratorio Nacional de Lorenzo Berkeley. Con el EUV de SEMATECH resista el programa de revelado, representantes técnicos y resista a los surtidores han hecho progreso importante en mejorar para resistir la resolución; los resultados más recientes han demostrado la resolución del mitad-tono de 22 nanómetro.

La meta del RMDC de SEMATECH es proporcionar a capacidad de calidad mundial de la exposición y el servicio como el centro de cabeza para que el surtidor resiste y la investigación de los materiales activen 22 tecnologías que modelan del nanómetro y más allá. Como parte de su esfuerzo en curso de crear las opciones flexibles de la participación para los materiales y los fabricantes de equipamiento, SEMATECH ha abierto su resiste programa a la participación de las compañías tales como TOK, para activar sociedades más amplias y más profundas para el revelado de los materiales avanzados.

Last Update: 17. January 2012 03:53

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