LOI Stelt Kader voor Nieuw Niveau van Samenwerking Tussen SEMATECH en TOK op de Technologieën van de Volgende Generatie op EUVL

Published on February 24, 2009 at 8:18 AM

SEMATECH, een globaal consortium van chipmakers, vandaag aangekondigd dat het een Brief van Bedoeling met (LOI) Co. van Tokyo Ohka Kogyo, Ltd (TOK), een belangrijke fabrikant van photoresists heeft ondertekend, die de grondslag voor een gezamenlijke ontwikkelingsovereenkomst vestigen over samenwerkingsinspanningen om nieuwe geavanceerde weergavematerialen voor extreme ultraviolette lithografie te optimaliseren en (EUV) te ontwikkelen.

Aangezien een Resist lid van Sematech- lithografieprogramma, TOK met deskundigen bij EUV zal samenwerken van SEMATECH Verzet tegenme en het Centrum van de Ontwikkeling van Materialen (RMDC) bij de Universiteit van Wetenschap Nanoscale en Techniek (CNSE) van de Universiteit in Albany om geavanceerde photoresist EUV voor gebruik te ontwikkelen en aan te tonen bij de 22 NMknoop en verder.

„Dit LOI stelt het kader voor een nieuw niveau van samenwerking tussen SEMATECH en TOK op volgende generatieEUVL technologieën op,“ bovengenoemde John Warlaumont, ondervoorzitter van geavanceerde technologieën, SEMATECH. „Wij geloven dat de capaciteit en ervaring van TOK die met de deskundigheid van SEMATECH inzake photoresist EUV wordt de gecombineerd onze vooruitgang in het aanpakken van zeer belangrijke uitdagingen - zoals resolutie, lijnbreedteruwheid, en patrooninstorting - op het kritieke gebied van geavanceerde weergave.“ zullen versnellen

„Aangezien de onderzoek en ontwikkelingsmogelijkheden van wereldklasse in UAlbany NanoCollege kritieke vooruitgang in technologie EUV toelaten, zal de toevoeging van TOK aan het vennootschap sematech-CNSE dienen om die inspanningen te verbeteren en uit te breiden,“ bovengenoemde Richard Brilla, ondervoorzitter voor strategie, allianties en consortiums bij CNSE. „Wij hebben het genoegen om met TOK in Albany NanoTech in te stemmen van CNSE, waar het zich bij het groeiende aantal collectieve partners aansluit wereldwijd die de globale leiding van New York in nanoscaleonderwijs, innovatie en economische ontwikkeling.“ erkennen

Tijdens het afgelopen jaar, verzet tegen de significante vooruitgang zich in EUV is toegelaten door EUV RMDC van SEMATECH door zijn twee micro-blootstelling hulpmiddelen (METs) die bij CNSE en bij het Nationale Laboratorium van Lawrence worden gevestigd Berkeley. Door EUV van SEMATECH verzet me ontwikkelings tegen programma, ingenieurs en verzet me tegen leveranciers hebben geboekt significante vooruitgang in het verbeteren tegen zich resolutie verzetten; de meest recente resultaten hebben 22 NM helft--hoogte resolutie aangetoond.

Het doel van RMDC van SEMATECH is het blootstellingsvermogen te verstrekken van wereldklasse en te dienen aangezien het belangrijke centrum voor leverancier zich verzet tegen en materialenonderzoek om 22 NM toe te laten die technologieën vormen en verder. Als deel van zijn aan de gang zijnde inspanning om flexibele participatieopties voor materialen en apparatuur fabrikanten tot stand te brengen, heeft SEMATECH zijn verzet zich tegen programma aan participatie van bedrijven zoals TOK, geopend om bredere en diepere vennootschappen voor geavanceerde materialenontwikkeling toe te laten.

Last Update: 14. January 2012 11:57

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit