Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D

意向书列明SEMATECH联盟之间的合作达到新水平的框架,并在下一代极紫外光刻技术TOK

Published on February 24, 2009 at 8:18 AM

SEMATECH联盟 ,一个全球性联盟的芯片制造商,今天宣布与东京Ohka工业株式会社有限公司(TOK)的领先制造商的光致抗蚀剂,它已经签署了一份意向书(LOI),建立联合开发协议的基础上的协作努力优化和开发新的先进的影像材料,极紫外(EUV)光刻。

作为一个SEMATECH的光刻方案抗成员,TOK将与SEMATECH的EUV技术的专家合作,抵制和材料发展中心(RMDC)在纳米科学与工程学院(CNSE)大学奥尔巴尼分校,以开发和示范先进的EUV使用光致抗蚀剂在22纳米节点及以后。

,先进技术,SEMATECH联盟副总裁约翰说Warlaumont:“此意向书列出一个新的水平之间的SEMATECH联盟合作的框架和对下一代极紫外光刻技术TOK”。他说:“我们相信,能力和经验TOK与SEMATECH的EUV光刻胶的专业知识相结合,将加快我们的进步,在解决面临的主要挑战 - 如分辨率,线宽粗糙度和格局瓦解 - 在关键领域的先进成像”

“作为世界一流的研究和开发能力,在UAlbany NanoCollege使EUV技术进步的关键,此外TOK SEMATECH联盟 - CNSE合作伙伴关系将有助于加强和扩大这些努力,说:”理查德Brilla,负责战略的副总裁,联盟和财团在CNSE。 “我们很高兴欢迎TOK CNSE的奥尔巴尼纳米技术,加入越来越多的全球合作伙伴认识到纽约,在纳米级的教育,创新和经济发展的全球领导地位的企业。”

在过去的一年,在EUV技术的显著进步抵抗已启用SEMATECH的EUV RMDC通过其在位于CNSE的两个微型曝光工具(METS)和劳伦斯伯克利国家实验室。通过SEMATECH的EUV技术抵御发展计划,工程师和抵制的供应商已在改善抵制决议方面取得了显著的进展;最近的结果已经证明了22纳米半间距决议。

SEMATECH的RMDC的目标是提供世界级的曝光能力和服务的领先供应商中心的抵制和材料的研究,使22纳米图案的技术和超越。作为其正在进行的努力创造灵活的材料和设备制造商参与选项的一部分,SEMATECH联盟开设了其计划,以抵抗如TOK公司的参与,使先进材料的开发更广泛和更深入的伙伴关系。

Last Update: 7. October 2011 11:09

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit