Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Universität von Tokyo Vergibt Auftrag für Fotoresist-Entwickler von EV-Gruppe

Published on March 17, 2009 at 6:30 PM

EV-Gruppe (EVG), ein führender Lieferant des Wafermasseverbindungs- und -lithographiegeräts für das MEMS, Nanotechnologie und Halbleitermärkte, kündigten heute, dass sie eine Ordnung für sein EVG101D empfangen haben, ein Fotoresistentwickler, von der Universität von Tokyo an. Ein erstmaliger Ordnungsgewinn von der Universität, Hilfsmittel EVGS ist an einem super-sauberen Raum eingebaut (Klasse 1) im Gebäude Takeda Sentanchi an den Teildiensten der Universität.

Eine vielseitige R&D-Anlage, das EVG101D vergrößert einen vorhandenen Entwickler an der Universität und wird verwendet werden, um 100 nm und kleinere Muster auf Masken und Wafers bis 200 mm am Forschungsteildienst zu entwickeln. Die Muster werden durch Eträger Lithographieanlage von der VLSI-Auslegung und vom Ausbildungszentrum (VDEC) erstellt.

„Dieser Entwickler von EVG erlaubt uns, die Menge von den Chemikalien zu verringern, die im sich entwickelnden Prozess benötigt werden und stellt eine Gesamtkostenaufstellung für uns zur Verfügung,“ sagte Professor Yoshio Mita von der Universität von Tokyo.

„Die Serie EVG100 ist ein flexibler Toolset, der geändert werden kann, um als Spray zu dienen oder Auftragmaschine zu spinnen, die für eine R&D-Umgebung ideal ist. Zusätzlich ist dieses Fotoresist, das Serie aufbereitet, zu Beschichtung kopierten Wafers, die für MEMS-Produktion geeignet ist,“ sagte Yuichi Otsuka fähig, RepräsentativDirektor von EV-Gruppe Japan K.K.

Die Universität von Tokyo hat einen hoch entwickelten Forschungsteildienst festgelegt, der ultra-feiner Lithographie/nanomeasurement eingesetzt wird. Die hoch entwickelte Mitte stellt ihre führenden R&D-Hilfsmittel für das Nanoprocessing und nanomeasurement erhältlich für allgemeine und Privatunternehmen sowie Regierungsinstitutionsforscher her. Seit seiner Einrichtung im Jahre 2007, haben diese Instanzen die nanolithography und Nano-maß der Hochdurchsatz der Mitte Anlagen sowie sein Superauflösungsdurchstrahlungselektronenmikroskop und eine Vielzahl von den Fertigungssystemen verwendet, die zur Halbleiterbauelementproduktion atypisch sind. Der Teildienst auch liefert Gießerei und analysiert Services, mit Hochschulpersonal auf Lager, um zu unterstützen. Zu mehr Information besuchen Sie bitte: www.nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp

Last Update: 14. January 2012 10:04

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit