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EVグループからフォトレジスト現像液のための東京大学の場所の順序

Published on March 17, 2009 at 6:30 PM

EVグループ(EVG) 、MEMS、ナノテクノロジー、半導体市場向けのウェーハボンディングとリソグラフィ装置の大手サプライヤーは、本日、東京の大学からEVG101D、フォトレジスト現像液、を受注したことを発表しました。大学から初めて受注勝利、EVGのツールは、大学の施設で武田先端知ビルのスーパークリーンルーム(クラス1)でインストールされます。

多目的なR&Dシステム、EVG101D補強大学の既存の開発者とは、研究施設で200 mmまでのマスクとウェハ上に100 nmと小さいパターンを開発するために使用されます。パターンは、集積システム設計教育研究センター(VDEC)からの電子ビームリソグラフィシステムによって作成されます。

"EVGからこの開発は、私たちは開発プロセスに必要な化学物質の量を減らすこと、そして私達の全体的なコスト削減を提供できるようになる、"東京の大学教授義雄三田氏は言う。

"EVG100シリーズはR&D環境に最適なスプレーまたはスピンコーター、として機能するように変更できる柔軟なツールセットです。さらに、このフォトレジスト処理シリーズは、MEMSの生産に適したコーティングパターニングウェハ、することができる、"雄一大塚、EVグループジャパン株式会社の代表取締役は述べて

東京大学は、超微細リソグラフィー/ nanomeasurementに特化した高度な研究施設を設置しています。洗練されたセンターは、ナノ加工、公共および民間企業だけでなく、政府機関の研究者に利用可能nanomeasurementのための彼らの最先端のR&Dのツールになります。 2007年の設立以来、これらのエンティティは、中央のハイスループットナノリソグラフィーとナノ計測システムだけでなく、その超分解能透過型電子顕微鏡及び半導体装置の製造への非定型製造システムのさまざまなを使用している。施設は、サポートするために、一方で大学のスタッフと、ファウンドリと分析サービスを提供しています。詳細については、以下のサイトをご覧ください。www.nanotechnet.tu - tokyo.ac.jp

Last Update: 7. October 2011 18:17

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