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La Technologie de Plasma d'Instruments d'Oxford Annonce Plusieurs Séminaires pour 2009

Published on March 22, 2009 at 9:42 PM

En 2009 la Technologie de Plasma d'Instruments d'Oxford tient plusieurs séminaires conjointement avec des universités d'hôte - ceux-ci seront sur un grand choix de sujets.

Nous sommes enchantés pour avoir des orateurs des universités d'hôte et des conférenciers invités d'un certain nombre de d'autres instituts et industrie, en plus des experts en matière de procédé et d'applications de la Technologie de Plasma d'Instruments d'Oxford, fournissant leurs connaissances approfondies du sujet choisi.

2 juillet 2009
Innovation dans le Traitement chez le Nanoscale
Hébergé par l'Université de Southampton, le R-U

16- 17 juillet 2009
Tech 2009 Gravure À L'eau Forte de Plasma - Poussée des Limites
Hébergé par La Fonderie Moléculaire, Laboratoire National de Lawrence Berkeley, CA, ETATS-UNIS (Pendant la semaine Occidentale de Semicon)

27- 28 août
Traitement Sec pour la microélectronique, l'accroissement, le dépôt et corroder
Hébergé par la TURQUIE Eindhoven, les PAYS-BAS

Les programmes Complets sont disponibles. Pour découvrir plus au sujet de chaque séminaire et/ou s'inscrire à un contact de place : process.news@oxinst.com

Last Update: 17. January 2012 04:30

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