Berkeley Laboratory Microfabrication installiert und qualifiziert SUNALE ALD Reactor aus Picosun

Published on April 1, 2009 at 1:49 AM

Die Microfabrication Laboratory der University of California in Berkeley, einer führenden Forschungseinrichtung dem Studium mikro-elektromechanische Systeme (MEMS) und anderen elektronischen Geräten Berichte mit ihren zufrieden sein Picosun SUNALE (TM) R-150 Atomic Layer Deposition (ALD) Reaktor, installiert und in Einsatz seit Ende 2008.

"Picosun machte einen Punkt in Senden sowohl ein Geräte-und Prozess-Spezialist. Unsere installieren war einzigartig, da wir zusätzliche benutzerdefinierte Hardware und die Picosun Team hinzugefügt arbeitete mit meinen Ingenieuren zu diesem besonderen Wunsch zu erfüllen. Der Zeitpunkt der Installation erfüllt Picosun Schätzung und die Abscheidung Tests wurden schnell innerhalb der Spezifikation ", sagt Dr. Bill Flundern, Technology Manager der Berkeley Microfabrication Laboratory.

"Picosun und Berkeley Laboratory Microfabrication haben ein kooperatives Forschungs-Abkommen, das uns beiden zugute kommen wird unterzeichnet. Wir, als einer der führenden ALD-Tool Entwickler und Hersteller haben erkannt Zusammenarbeit mit den führenden Forschungseinrichtungen auf der Grundlage unserer Technologie-und Prozessentwicklung Strategie Form" , sagt Juha Kostamo, Managing Director von Picosun. "Für Picosun in Zusammenarbeit mit Weltklasse-Wissenschaftler an der UC Berkeley ist ein Privileg", sagt Kostamo.

"Für uns bedeutete die Picosun Tool die beste Kombination aus Preis und Leistungsfähigkeit. Die SUNALE (TM) R-150 ALD Reaktor für Al2O3 Abscheidung mit Film Abscheiderate von 1,02 Angström pro Zyklus und 1 sigma Uneinheitlichkeit weniger als 1% war qualifiziert über den Wafer. Picosun technischen Support ist hervorragend, und ich erwarte eine laufende konstruktive Beziehung, die unser Labor Mitgliedern zugute kommen und zu verbessern Picosun Position unter den US-universitären Forschungszentren ", sagt Dr. Flundern.

In Berkeley Laboratory Microfabrication sind Professor Clark Nguyen und seine Arbeitsgruppe mit ALD zu beschichten mikromechanische Resonatoren, so dass die Lücken zwischen den Strukturen und Elektroden deutlich reduziert werden kann. Reduzierung solche Lücken zu 10 ist der Nanometer hilft, die Impedanzen dieser Geräte für die drahtlose Kommunikation Anwendungen zu reduzieren.

Professor Tsu-Jae König Liu und ihre Arbeitsgruppe die SUNALE (TM) R-150 ALD-Tool, um konform Einzahlung hoher Dielektrizitätskonstante dielektrische Materialien, präzise Stärken, um neue Schaltgeräte für integrierte Schaltungen, die eine bessere Energieeffizienz als herkömmliche komplementäre Metall anbieten können -Oxid-Halbleiter (CMOS)-Transistoren.

Im Jahr 1960, DO Professoren Pederson, TE Everhart, und PL Morton produziert Pläne für die weltweit erste Universität integrierten Schaltkreis Labor. Dies war der Beginn des heutigen Berkeley Microfabrication Laboratory. Im Laufe der Jahre hat sich die Mitgliedschaft im Labor auf über 500 erhöht derzeit. Die vorliegende Microlab ist in sein drittes Jahrzehnt und Betrieb weiter, bis ein neues Labor abgeschlossen ist. Die Migration der Microlab in die neue Marvell Nanolab wird in diesem Jahr beginnen.

Picosun entwickelt und produziert Atomic Layer Deposition (ALD) Reaktoren für Mikro-und Nanotechnologie-Anwendungen. Picosun stellt Kontinuität über drei Jahrzehnten der ALD Reaktor Fertigung in Finnland. Picosun ist in Espoo, Finnland und hat seine US-Zentrale in Detroit, Michigan. SUNALE (TM) ALD-Prozess-Tools sind in verschiedenen Universitäten, Forschungsinstituten und Unternehmen in ganz Europa, USA und Asien installiert. Dr. Tuomo Suntola, der Erfinder des ALD-Technologie, ist Mitglied des Board of Directors von Picosun. Weltweit erfahrensten ALD Reaktor Designer Sven Lindfors ist Picosun Chief Technology Officer und einer der Gründer des Unternehmens. Picosun Oy ist ein Teil von Stephen Industries Inc Oy.

Last Update: 6. October 2011 08:50

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