ASML Hat seine Lizenzen für Optische Maskless-Lithographie für Halbleiter-Anwendungen Abgebrochen

Published on April 16, 2009 at 3:50 AM

Mikronische Laser-Anlagen AB (STO: MICR) und ASML die Niederlande B.V. unterzeichneten im Dezember 2004 eine Lizenzvereinbarung, die ASML das Recht gibt, optische maskless Lithographie für die Halbleiteranwendungen zu vermarkten, die auf Mikronischem Patenteffektenbestand im SLM basierten (Räumlicher Heller Modulator) und in der Datenwegtechnologie.

ASML hat seine Lizenzen abgebrochen.

Dies heißt, das Mikronische Wiedergewinnungen das Recht, die oben erwähnten Patente an seiner eigenen Diskretion völlig zu verwenden. Mikronisches Recht, Entwicklung ASMLS der SLM-Technologie für Fotomaskenanwendungen zu verwenden fährt fort. Mikronisch erstattet eine Vorauszahlung von den Abgaben zurück, die auf 13 MEUR sich belaufen. Die Vorauszahlung ist zinseneinbringend und die Rückvergütung beeinflußt nicht Mikronische netto Kasse und wird keine Auswirkung auf Mikronisches Ergebnis haben.

Mikronische Laser-Anlagen ist ein Schwedisches High-Tech-Unternehmen, das an der Entwicklung, der Fertigung und dem Marketing einer Reihe extrem genauer Laser-Mustergeneratoren für die Produktion von Fotomasken teilnimmt. Die betroffene Technologie bekannt als microlithography. Mikronisches Produktangebot umfaßt auch Metrologieanlagen für Bildschirmanzeigephotomasken. Mikronische Anlagen werden von den führenden Elektronikkonzernen der Welt in der Fertigung von Fernseh- und Computerbildschirmanzeigen, von Halbleiterschaltungen und von Verpackenbauteilen des Halbleiters verwendet. Mikronisch ist in Taby, nördlich von Stockholm und hat zur Zeit Tochtergesellschaften in den Vereinigten Staaten, Japan, Südkorea und in Taiwan. Mikronisch behält eine Website an bei: http://www.micronic.se

Last Update: 14. January 2012 08:06

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