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ASML は半導体のアプリケーションの Maskless の光学石版印刷のためのライセンスを終えました

Published on April 16, 2009 at 3:50 AM

Micronic レーザーシステム AB (STO: MICR) および ASML ネザーランド B.V. は 2004 年 12 月に ASML に SLM (空間的な光変調器) およびデータ・パスの技術の Micronic パテントのポートフォリオに基づいて半導体のアプリケーションのための光学 maskless 石版印刷を販売する権利を与える使用許諾契約に署名しました。

ASML はライセンスを終えました。

Micronic 回復十分に自身の思慮分別で前述のパテントを使用する権利これは意味します。 フォトマスクのアプリケーションのために ASML の SLM の技術の開発を使用する Micronic 権利は続きます。 Micronic 13 MEUR になっている皇族の前金を返します。 前金は興味ベアリングであり、返済は Micronic 純現金収入に影響を与えないし、 Micronic 結果に影響しません。

Micronic レーザーシステムはフォトマスクの生産のための一連の非常に正確なレーザーのパターン・ジェネレータの開発、製造およびマーケティングで実行されるスウェーデンのハイテク企業です。 含まれる技術は microlithography として知られています。 また提供する Micronic 製品は表示フォトマスクのための度量衡学システムを含んでいます。 Micronic システムはテレビおよびディスプレイ、半導体回路および半導体の包装のコンポーネントの製造で世界の一流の電子企業によって使用されます。 Micronic ストックホルムの北の Taby に、あり、米国、日本、韓国と台湾で現在子会社を持っています。 Micronic ウェブサイトをで維持します: http://www.micronic.se

Last Update: 14. January 2012 04:00

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