Esperti in SEMATECH Per Presentare Progresso Significativo sulle Tecnologie Chiave di Next Generation a VLSI-TSA

Published on April 26, 2009 at 7:42 PM

Gli Esperti dal programma di Trattamenti della Parte Frontale (FEP) di SEMATECH presenteranno i risultati della ricerca dell'innovazione nella logica avanzata e le tecnologie non volatili future al Congresso Internazionale sulla Tecnologia di VLSI, sul Sistema e sulle Applicazioni (VLSI-TSA) il 27-29 aprile 2009 all'Ambasciatore Hotel a Hsinchu, Taiwan. I documenti riferiscono il progresso nelle aree quale la generazione seguente materiali delle porte del metallo/ (HKMG)alti--K, memoria flash avanzata, Tecnologie CMOS planari e non planari e la metrologia di difetto di HKMG.

“Con la ricerca di collaborazione, il nostro scopo è di svilupparsi e caratterizzare i nuovi materiali di avanguardia e le strutture dell'unità che permettono alla logica di operazione di disgaggio, alla memoria ed alle tecnologie di emergenza,„ ha detto Raj Jammy, il vice presidente di SEMATECH delle tecnologie di emergenza. “Il lavoro di SEMATECH ha mescolato sempre l'innovazione con le soluzioni pratiche per muovere l'industria in avanti. Siamo felici di dividere i nostri risultati con una comunità augusta dei tecnologi montati in Taiwan, che svolge un ruolo sempre più significativo nell'azionamento dell'industria a semiconduttore verso le generazioni future.„

Lunedì 27 Aprile

  • Metallo La-Verniciato/nMOSFET Alto--K per Sub-32nm HP e l'Applicazione di LSTP - Studia l'idoneità dei nMOSFETs con la pila La-Verniciata del metallo/alta--K portone per vedere la sua idoneità per le applicazioni di potenza standby bassa di sub-32nm (LSTP) e di rendimento elevato.
  • Ellipsometry spettroscopico d'Estensione per l'identificazione dei difetti elettricamente attivi nelle pile del portone di Si/SiO2/high-k/metal - Esplora un nuovo metodo facendo uso di ellipsometry spettroscopico non invadente per identificare i difetti di offerta di l$voro dell'ossigeno nel livello interfacciale inferiore SiO2 delle pile riportate in scala del metallo/alte--K portone.
  • Valutazione di Affidabilità delle Pile Alte--K del Portone del Metallo Basso del VT per le Applicazioni di Rendimento Elevato - Descrive delle tecniche e dei modelli di caratterizzazione dell'affidabilità che mirano alle previsioni di vita di HKMG.
  • Potenziamento Additivo di Mobilità e Riduzione Corrente dello Fuori Stato dei pMOSFETs di Manica di SiGe con il Cappuccio Ottimizzato di Si e le Pile Alte--K del Portone del Metallo - Dimostra gli alti pMOSFETs di mobilità con le pellicole epitassiali di SiGe di alta qualità sviluppate selettivamente su 100) substrati di Si (.

Mercoledì 29 Aprile

  • Leghi gli Ossidi Costruiti del Tunnel per il Programma/Erase Istantanei TANOS tipi Migliori con Buona Resistenza del Ciclo 100K e della Conservazione - Dimostra, per la prima volta, che gli ossidi banda-costruiti del tunnel integrati con un portone metallo/alto--K possono migliorare il programma, il erase e la resistenza in unità di memoria flash tassa-intrappolate.
  • Alto Portone PFETs di Omega di Memoria di Shell-Si di SiGe di Mobilità - Esplora l'uso dei pFETs portone tipi di Omega con uno shell di SiGe (alto canale di mobilità) su una memoria di Si.

Servendo da ponte fra R & S e fabbricazione, unità cooperazione precompetitiva di SEMATECH e collaborazione accelerare la commercializzazione del nanoelectronics e della nanotecnologia. Gli ingegneri del FEP di SEMATECH sono messi a fuoco sullo sviluppare le nuove tecniche per l'estensione i dielettrici alti--K, i portoni del metallo, gli alti canali di mobilità e delle tecnologie di memoria avanzate in collaborazione con le società del membro, le università, i laboratori nazionali ed i partner del fornitore.

Il Congresso Internazionale sulla Tecnologia di VLSI, sui Sistemi e sulle Applicazioni (VLSI-TSA) è patrocinato dall'Istituto degli Ingegneri Elettronici Ed Elettrotecnici (IEEE), un'associazione professionale principale per l'avanzamento della tecnologia, in collaborazione con l'Istituto Di Ricerca Della Tecnologia Industriale di Taiwan (ITRI). VLSI-TSA è uno di molti usi dei forum SEMATECH dell'industria collaborare con gli scienziati e gli ingegneri dalle società per azioni, dalle università e da altri centri di ricerca.

Last Update: 17. January 2012 02:20

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