Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD

TOK Joins SEMATECH Motstå Materials and Development Center på UAlbany NanoCollege

Published on April 29, 2009 at 8:38 AM

SEMATECH , et globalt konsortium av mikrochips, og Tokyo Ohka Kogyo Co, Ltd (TOK), en ledende produsent av photoresists, kunngjorde i dag at TOK har sluttet SEMATECH Motstå Materials and Development Center (RMDC) ved College of Science and Engineering nanoskala (CNSE) ved Universitetet i Albany.

Den RMDC oppgave er å utvikle motstå og materialer for 22 nm mønster teknologier og utover, og består av både ekstrem ultrafiolett (euv) eksponering evne og en portefølje av sponset universitetet forskningsprogrammer. TOK vil team med forskere ved SEMATECH å utvikle og demonstrere euv materialer og motstår for bruk ved 22 nm node og utover.

"Vi er glade for å velkommen TOK som medlem, og vi er sikre på dette samarbeidet vil hjelpe oss å bygge på det gode arbeidet som SEMATECH er litografi forskere har forpliktet seg til å drive utviklingen av motstå og materialer som er avgjørende for fortsatt framgang i industrien," sier John Warlaumont, visepresident for avansert teknologi på SEMATECH. "Dette nye partnerskapet er det siste eksempelet på SEMATECH pågående innsats for å skape fleksible deltakelse alternativer som vil gi bredere og dypere partnerskap for avanserte materialer utvikling."

"Den kritiske innsats for å utvikle og kommersialisere EUVL teknologi for produksjon av framtidige nanoelektronikk enheter vil bli styrket ved tilsetning av Tokyo Ohka Kogyo til SEMATECH Motstå Materials and Development Center på CNSE i Albany Nanotech," sier Richard Brilla, CNSE Vice President for strategi, Allianser og konsortier. "Dette nye samarbeidet vil aktivere ekstra cutting-edge evner på UAlbany NanoCollege, og bygge på det globale lederskapet i New York State i nanoteknologi utdanning, forskning og utvikling og økonomisk rekkevidde."

På RMDC, ledende motstå og materialer leverandører har tilgang til SEMATECH to mikro-eksponering verktøy (Mets) lokalisert ved University at Albany College of Science and Engineering nanoskala og University of California i Berkeley, og kan delta i fokusert, samarbeidende FoU med SEMATECH medlemsbedrifter. De har også tilgang til flere metrologi verktøyene ligger i SEMATECH RMDC.

"The RMDC bringer sammen de kritiske evner som trengs for å muliggjøre manufacturable euv", sier Bryan Rice, direktør for Litografi på SEMATECH. "Et partnerskap med motsette leverandører som TOK vil akselerere euv motstå utvikling og i sin tur vil støtte betimelig EUVL introduksjon."

Last Update: 6. October 2011 09:28

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit