TOK加入SEMATECH的抗材料发展中心在UAlbany NanoCollege

Published on April 29, 2009 at 8:38 AM

SEMATECH联盟 ,全球的芯片制造商财团,东京工业株式会社Ohka有限公司(TOK)的光致抗蚀剂的领先制造商,今天宣布,TOK已加入SEMATECH的抵抗纳米科学与工程学院材料及发展中心(RMDC) (CNSE)大学奥尔巴尼分校。

RMDC的使命是开发22纳米图案的技术和超越的抵制和材料,包括两个极端紫外线(EUV)曝光能力和赞助大学研究项目的组合。 TOK将与SEMATECH联盟的研究人员,开发和演示使用EUV技术材料和抵制在22纳米节点和超越。

“我们都高兴来欢迎作为成员TOK,和我们相信这种合作有助我们建立了,SEMATECH的光刻技术研究人员已进行驱动的,抵制的发展和材料继续在制造业取得进展的关键的出色工作后,”说约翰说Warlaumont,SEMATECH联盟先进技术的副总裁。 “这种新的伙伴关系,最新的例子是SEMATECH的不断努力,以创建灵活的参与的选项,使先进材料的开发更广泛和更深入的伙伴关系。”

“在关键的努力来发展和商业化制造未来纳米电子器件的极紫外光刻技术将是在东京Ohka兴业此外SEMATECH的抗材料和CNSE的奥尔巴尼纳米技术发展中心增强,”说理查德Brilla,CNSE为战略副总统,联盟和财团。 “这种新的伙伴关系将使在UAlbany NanoCollege额外的尖端能力建设的纳米技术教育,研究和发展,和经济活动的全球领导地位的纽约州。”

的RMDC,导致抵制和材料供应商SEMATECH的两个微型的曝光工具(METS)位于奥尔巴尼的纳米科学和工程,并在伯克利加州大学学院大学的访问,并可以参加集中,合作ř&ð与SEMATECH联盟成员公司。他们也有机会到位于SEMATECH的RMDC几个计量工具。

“RMDC汇集,使制造的EUV技术所需的关键能力,说:”布赖恩水稻,光刻主任在SEMATECH联盟。 “合作伙伴与供应商的抵制,如TOK将加快EUV技术抵御发展,反过来又会支持及时的极紫外光刻引进。”

Last Update: 10. October 2011 14:59

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit