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TOK 連接 SEMATECH 在 UAlbany NanoCollege 抵抗材料和開發中心

Published on April 29, 2009 at 8:38 AM

SEMATECH、芯片製造商全球財團和東京 Ohka Kogyo Co.,有限公司 (TOK),光致抗蝕劑主導的製造商,今天宣佈的 TOK 連接了 SEMATECH 在學院 Nanoscale 科學和工程抵抗材料和開發中心 (RMDC) (CNSE) 大學在阿爾巴尼。

RMDC 的任務是開發抵抗和 22 毫微米仿造的技術的材料和以遠,并且包括極其紫外 (EUV)風險功能和被贊助的大學研究方案投資組合。 TOK 將合作與研究員在 SEMATECH 開發和展示 EUV 材料并且抵抗為在 22 毫微米節點的以遠使用和。

「我們高興地歡迎 TOK 作為成員,并且我們確信此協作將幫助我們編譯在這個非常好的工作 SEMATECH 的石版印刷研究員同意駕駛發展抵抗,并且為持續的進展是重要的在製造中的材料」,說約翰 Warlaumont,先進技術的副總統在 SEMATECH 的。 「此新的合夥企業是 SEMATECH 的持續的工作成績的最新的示例創建將啟用高級材料發展的更加清楚和更加深刻的合夥企業的靈活的參與選項」。

「這個重要工作成績開發和把將來的 nanoelectronics 設備製造的 EUVL 技術商業化將由東京提高對 SEMATECH 的 Ohka Kogyo 的添加抵抗材料,并且開發中心在 CNSE 的阿爾巴尼 NanoTech」, CNSE 說理查 Brilla,方法、聯盟和財團副總裁。 「此新的合夥企業將啟用另外的最尖端的功能在 UAlbany NanoCollege,編譯在紐約州全球領導在納米技術教育、研究與開發和經濟拓展」。

在 RMDC,導致请抵抗,并且材料供應商得以進入對 SEMATECH 的二微型風險工具的 (METs)位於大學 Nanoscale 科學和工程阿爾巴尼的學院和加州大學伯克利分校,并且能參加與 SEMATECH 成員公司的集中的,合作 R&D。 他們也得以進入對位於 SEMATECH 的 RMDC 的幾個計量學工具的。

「RMDC 帶來必要的重要功能啟用 manufacturable EUV」,米,石版印刷的主任說布賴恩在 SEMATECH 的。 「成為夥伴與请抵抗供應商例如 TOK 將加速 EUV 抵抗發展,并且,反之,支持及時的 EUVL 簡介」。

Last Update: 24. January 2012 15:29

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