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規定在材料顯微學的 Axio 印象新的標準

Published on May 5, 2009 at 8:25 AM

Axio 印象顯微鏡系統的第二代從卡爾蔡司的規定在材料顯微學的新的標準。 是否在質量測試和保證,在材料分析或將來的材料的發展 - 光學質量、性能和舒適是 Axio 印象的主要好處。 顯微鏡系統為與其他系統和網絡連接的通信提供清楚的運算和開放界面。 健壯的系統的提高能力使用戶也適應將來的需要。

一個多晶的硅太陽能電池的微寫器採取與從卡爾蔡司, brightfield, EC Epiplan- APOCHROMAT 50x/0.95 的 Axio 印象顯微鏡系統。

Axio 印象的特殊功能也包括其靈活性和關於範例的最大情報在所有不同的技術,即 brightfield、 darkfield 或者 C-DIC 範例區和一個光學系統的持續高程平差。

材料顯微學的新的 Axio 印象生成是想像解決方法的理想的平臺在數字式顯微學 - 準確和再現結果的。 四個版本是可用的 - 從編碼和部分動力化到充分地動力化 - 單個滿足在一個顯微鏡系統的用戶』需求材料分析、材料發展和質量檢驗的。 M2m 和 Z2m 版本功能動力化了反射光光束路徑并且動力化了 Z 驅動器。 Z2m 設計的高性能焦點保證一致的精確度在 10 毫微米的步驟寬度甚而在連續作業在高負荷。 此外,此設計以自動組件識別為特色。 動力化的版本, TFT 顯示的用戶設計完全地被修改保證更加運行的便利。

另外的技術改善包括這個功能到聯合收穫機被反射的和對光亮域膜片和孔徑光闌飛機的透過光到混雜的光,存取在反射光光束路徑在所有版本,細致的推進瘤和細致的推進盤的交換性和更加同類的照明的一個最近被設計的傳輸光光束路徑在透過光甚而與低目的放大。

的 EC Epiplan-APOCHROMAT 目的線路可以使用與 Axio 印象適應高需求并且提供在材料顯微學的最佳結果。 EC Epiplan- NEOFLUAR HD/DIC 和 EC Epiplan-NEOFLUAR HD 排行在另外的版本的結果被符合對不同的用戶要求。 目的優質 EC EPIPLAN 線路將適應用戶需要面對在 materialography 的特定定期任務。 如果需要一個更長的工作距離, LD 版本提供在這個範例的必要的空間。

顯微鏡系統主要為專門製作金屬工藝的需要、開採和光致電壓的行業和研究機構在材料學和地質領域。 它可以用 AxioCam 照相機和 AxioVision 軟件補充從卡爾蔡司。 然而,這個立場也是可用的在非金屬包括 (NMI)、微粒分析程序和 LSM 700 完整系統。

Last Update: 24. January 2012 15:29

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