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Système UV-Basé de Lithographie de Nanoimprint d'EVG Sélecté par Fraunhofer IOF pour la Recherche Optoélectronique

Published on May 12, 2009 at 9:11 AM

Le Groupe d'EV (EVG), un principal fournisseur de matériel de métallisation et de lithographie de disque pour le MEMS, nanotechnologie et marchés de semi-conducteur, ont aujourd'hui annoncé cet Institut de Fraunhofer pour le Bloc Optique Appliqué et l'Ingénierie de Précision IOF--un de 57 instituts du Fraunhofer-Gesellschaft a consacré à la recherche application application de bloc optique appliqué et de précision--phase UV-basée de la lithographie du nanoimprint d'EVG sélecté (UV-NIL) et système de répétition pour ses efforts de recherche optoélectroniques de pointe. L'Institut utilisera l'UV-NIL de pas pour la micro-lentille maîtrisant et formant pour une foule d'applications de micro-blocs optiques, y compris l'optique fibre et les Capteurs d'image cmos pour les appareils-photo disque disque, ainsi que pour d'autres applications nanoimprinting.

La seule phase et la répétition d'EVG imprimant l'élan intègre une capacité de rétablissement de maître de lentille, qui augmente des procédés en pas à pas traditionnels. Cette capacité ajoutée active la création d'un maître de lentille pour la fabrication fonctionnante d'estampille et le micro-moulage ultérieur de lentille de plein-disque. Le système offre également des avantages d'importantes économies de coûts, particulièrement comparés aux techniques traditionnelles de fabrication de maître de lentille, y compris l'élimination du post traitement fait un pas, la souplesse d'utiliser un grand choix de disponible dans le commerce résiste, et débit accru. Tirant de ses systèmes alignés de compétences, exactitude submicronique de cadrage de caractéristiques techniques de pas de l'UV-NIL d'EVG, ayant pour résultat le rendement amélioré ainsi que performance de dispositif.

« Nous continuons à pousser l'enveloppe dans la recherche de micro-blocs optiques, et pendant que tels recherchent les associés de matériel qui offrent flexible, novateur, pourtant les systèmes rentables qui nous maintiennent sur le tranchant, » a dit M. Peter Dannberg, amorce « Technologie de groupe de Micro-Blocs Optiques » de Fraunhofer IOF. « Après avoir évalué des solutions de plusieurs fournisseurs de lithographie de nanoimprint, nous avons éventuel sélecté le système d'EVG suivant des résultats positifs de démo ainsi que pour sa micro-lentille supérieure maîtrisant et nanoimprinting des capacités. La souplesse de processus ses offres de pas d'UV-NIL est une valeur significative ajoutent aussi bien puisqu'elle nous procure de l'employer pour un grand choix d'applications. »

« Cette opportunité de partner avec un institut de recherches de bélier tel que Fraunhofer IOF est significative à nous à beaucoup de niveaux, » M. remarquable Thomas Glinsner, chef de gestion du produit pour le Groupe d'EV. La « histoire d'EVG est profondément enracinée en servant des environnements de R&D où il y a un besoin d'outils performants qui sont flexibles et rentables. Fonctionner attentivement avec des universités et des institutions de R&D est comment nous avons commencé nos affaires, et au cours des années, elles ont ouvert les marchés à EVG, nous permettant d'être concernés dans les technologies de l'enfance de R&D par la commercialisation à fort débit. Nous sommes captivés travailler avec un institut de renommée mondiale comme Fraunhofer, et être dans l'attente aux opportunités neuves passionnantes que notre partenariat peut porter. »

La lithographie de Nanoimprint gagne l'adoption dans la R&D de pointe pour différents dispositifs comprenant les appareils-photo disque disque, où le coût de fabrication inférieur sans sacrifier la fidélité de configuration est principal à satisfaire les exigences des marchés tels que des téléphones portables et des blocs optiques. EVG a été en activité dans UV-NIL depuis 1997, et a depuis fonctionné avec les partenaires de l'entreprise variés et les institutions de R&D sur des technologies nanoimprinting se développantes. Parmi sa base de clients à fort débit est le Ltd Privée de Micro-Blocs optiques de Heptagone à Singapour, qui a sélecté le Dispositif D'alignement du QI d'EVG pour la production à fort débit de microlens annoncée en juillet 2008.

Last Update: 17. January 2012 02:16

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