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A Sistema Basato a UV di Litografia del Nanoimprint di EVG Selezionato da Fraunhofer IOF per Ricerca Optoelettronica

Published on May 12, 2009 at 9:11 AM

Il Gruppo di EV (EVG), un fornitore principale della strumentazione di legame e della litografia del wafer per il MEMS, nanotecnologia e servizi a semiconduttore, oggi hanno annunciato quell'Istituto di Fraunhofer per l'Ottica Applicata e la Meccanica di Precisione IOF--uno di 57 istituti del Fraunhofer-Gesellschaft ha dedicato alla ricerca orientata a applicazioni di precisione e dell'ottica applicata--a punto di litografia del nanoimprint di EVG selezionato (UV-NIL) ed a sistema basati a UV di ripetizione per i sui sforzi di ricerca optoelettronici avanzati. L'Istituto userà il UV-NIL passo passo per la micro-lente che padroneggia e che modella per una miriade di applicazioni delle micro-ottica, compreso i sensori di immagine di CMOS e di fibre ottiche per delle le macchine fotografiche livelle del wafer come pure per altre applicazioni nanoimprinting.

Il punto unico e la ripetizione di EVG che imprimono l'approccio integra una capacità della generazione del supervisore della lente, che aumenta i trattamenti a passo singolo tradizionali. Questa capacità aggiunta permette alla creazione di un supervisore della lente per montaggio di lavoro del bollo e il micro-modanatura successivo della lente del interamente wafer. Il sistema egualmente offre i vantaggi significativi di risparmi, confrontati specialmente alle tecniche tradizionali di montaggio del supervisore della lente, compreso l'eliminazione di postelaborazione fa un passo, la flessibilità usare vario disponibile nel commercio resiste a e capacità di lavorazione aumentata. Tirando dai sui sistemi allineati di competenza, accuratezza passo passo di allineamento di submicron delle funzionalità del UV-NIL di EVG, con conseguente rendimento migliore come pure prestazione dell'unità.

“Stiamo continuando a spingere la busta nella ricerca delle micro-ottica e mentre tali stanno cercando i partner della strumentazione che offrono flessibile, innovatore, eppure sistemi redditizi che ci tengono sull'avanguardia,„ ha detto il Dott. Peter Dannberg, la guida “la Tecnologia del gruppo delle Micro-Ottica„ di Fraunhofer IOF. “Dopo la valutazione delle soluzioni da parecchi fornitori della litografia del nanoimprint, infine abbiamo selezionato il sistema di EVG che segue i risultati positivi della dimostrazione come pure per la sua micro-lente superiore padroneggianti e avere nanoimprinting le capacità. La flessibilità trattata le sue offerte passo passo di UV-NIL è un valore significativo aggiunge pure poiché ci fornisce la capacità di utilizzarla per varie applicazioni.„

“Questa opportunità di partner con un istituto di ricerca del bellwether quale Fraunhofer IOF è significativa a noi a molti livelli,„ il Dott. celebre Thomas Glinsner, testa di gestione del prodotto per il Gruppo di EV. “La cronologia di EVG profondamente è piantata nel servizio degli ambienti di R & S in cui c'è un'esigenza degli strumenti ad alto rendimento che sono flessibili e redditizi. Il Lavoro molto attentamente con le università e le istituzioni di R & S è come abbiamo iniziato la nostra attività e nel corso degli anni, ha aperto i nuovi mercati a EVG, permettendo che noi partecipiamo alle tecnologie da infanzia di R & S con la commercializzazione in grande quantità. Siamo entusiasmati lavorare con un istituto di fama mondiale come Fraunhofer e sguardo in avanti alle nuove occasioni che emozionanti la nostra associazione può rappresentare.„

La litografia di Nanoimprint sta guadagnando l'approvazione nella R & S avanzata per varie unità compreso delle le macchine fotografiche livelle del wafer, in cui i costi di produzione più bassi senza sacrificare la fedeltà del reticolo è chiave a rispondere alle esigenze dai servizi quali i telefoni cellulari e le ottica. EVG è stato attivo in UV-NIL dal 1997 e da allora ha funzionato con i vari partner dell'industria e le istituzioni di R & S sulle tecnologie nanoimprinting di sviluppo. Fra la sua base di clienti in grande quantità è PTE Srl delle Micro-Ottica dell'Ettagono a Singapore, che ha selezionato il Aligner del QUOZIENTE D'INTELLIGENZA di EVG per produzione in grande quantità dei microlens annunciata nel luglio 2008.

Last Update: 17. January 2012 01:41

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