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EVG の光電子工学の研究に Fraunhofer IOF が選ぶ紫外線ベースの Nanoimprint の石版印刷システム

Published on May 12, 2009 at 9:11 AM

EV のグループ (EVG)、 MEMS のナノテクノロジーおよび半導体の市場のためのウエファーの結合および石版印刷装置の一流の製造者は、今日応用光学および精密工学 IOF のための Fraunhofer のその協会を発表しました--Fraunhofer Gesellschaft の 57 人の協会の 1 つは応用光学および精密アプリケーション指向の研究に捧げました--指定 EVG の先端の光電子工学の研究活動のための紫外線ベースの nanoimprint の石版印刷 (UV-NIL) のステップそして繰り返しシステム。 マイクロ光学アプリケーションの、ウエファーレベルのカメラのためのファイバ・オプティックスおよび CMOS の画像センサーを含む、また他の nanoimprinting アプリケーションの多くのために習得し、形成している協会は段階 UV-NIL をマイクロレンズのために使用します。

アプローチを捺印する EVG の一義的なステップおよび繰り返しは従来のシングル・ステッププロセスを増加するレンズのマスターの世代別機能を統合します。 この追加された機能は働くスタンプの製造およびそれに続く全ウエファーレンズのマイクロ鋳造物のためのレンズのマスターの作成を可能にします。 システムはまた特に従来のレンズのマスターの製造の技術と比較される重要な費用節約の利点が、あります後処理の除去を含んで歩みます、いろいろ商用化された使用する柔軟性は、増加されたスループット抵抗し。 、 EVG の UV-NIL の段階的な機能ミクロ以下のアラインメントの正確さ、改良された収穫に終って専門知識一直線上システムから引っ張ります、また装置パフォーマンス。

「私達はそのような物が適用範囲が広い、革新的提供する、けれども最先端の私達を保つ費用有効システム」、装置パートナーを捜していると同時にマイクロ光学研究のエンベロプを押し続けて、先生を言いましたピーター Dannberg のグループのリーダー Fraunhofer IOF の 「マイクロ光学技術」。 「習得している何人かの nanoimprint の石版印刷の製造者からの解決を、私達は優秀なマイクロレンズに最終的に肯定的なデモの結果に続く EVG のシステムを、また評価することおよび機能を nanoimprinting 後選びました。 プロセス柔軟性は UV-NIL の段階的な提供いろいろなアプリケーションのためにそれを利用する機能を私達に」。与えるので重要な値また追加しますです

「Fraunhofer IOF のような指導者の研究所と組むこの機会多くのレベルの私達に重要」、はトマス Glinsner の EV のグループのための製品管理のヘッド注目される先生です。 「EVG の歴史は適用範囲が広く、費用有効である高性能ツールのための必要性がある R & D の環境に役立つことで深く定着します。 密接に働くことは R & D の大学および施設と私達が私達のビジネスをどのように開始した、長年かけて、 EVG に新市場を開きまかであり、 R & D の幼年時代からの大量の商業化によって技術にかかわることを私達を許可します。 私達は Fraunhofer のような世界的に有名な協会を使用するために感動し順方向の一見に私達のパートナーシップが」。持って来るかもしれないエキサイティングで新しい機会

Nanoimprint の石版印刷は携帯電話および光学のような市場からの要求に応じることに主であるかパターン忠誠を犠牲にしないでより低い製造原価がウエファーレベルのカメラを含むさまざまな装置のための先端 R & D の採用を得ています。 EVG は 1997 年以来の UV-NIL でアクティブで、成長の nanoimprinting 技術のさまざまな企業パートナーそして R & D の施設をその後使用していました。 大量の客層の中で 2008 年 7 月に発表された大量の microlens の生産に EVG の I.Q. のアライナを選んだシンガポールの七角形のマイクロ光学 Pte 株式会社あります。

Last Update: 14. January 2012 02:22

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