Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Systeem van de Lithografie Nanoimprint van EVG het uv-Gebaseerde die door Fraunhofer IOF voor Optoelectronic Onderzoek wordt Geselecteerd

Published on May 12, 2009 at 9:11 AM

EV Groepeer me (EVG), een belangrijke leverancier van wafeltje dat plakt en de lithografieapparatuur voor de markten van MEMS, van de nanotechnologie en van de halfgeleider, kondigde vandaag dat Instituut Fraunhofer voor de Toegepaste Optica en Techniek van de Precisie IOF aan--één van 57 instituten van fraunhofer-Gesellschaft gewijd aan toegepaste optica en precisie toepassing-georiënteerd onderzoek--uv-Gebaseerde nanoimprint de lithografie (uv-NUL) stap de geselecteerde van EVG en herhaalt systeem voor zijn leading-edge optoelectronic onderzoeksinspanningen. Het Instituut zal stepper van de uv-NUL voor micro-lens gebruiken die en voor een gastheer van micro-optica toepassingen, met inbegrip van vezeloptica en CMOS beeldsensoren voor wafeltje-vlakke camera's, evenals voor andere nanoimprinting toepassingen beheerst vormt.

De unieke stap van EVG en herhaalt het stempelen van benadering een vermogen van de lens hoofdgeneratie integreert, dat traditionele single-step processen vergroot. Dit toegevoegde vermogen laat de verwezenlijking van een lensmeester voor toe het werk zegelvervaardiging en verdere volledig-wafeltjelens micro-vormt. Het systeem biedt ook significante kostenbesparingenvoordelen, in het bijzonder in vergelijking met de traditionele technieken van de lens hoofdvervaardiging, met inbegrip van de verwijdering van post-verwerkt stappen aan, verzet tegen de flexibiliteit zich om een verscheidenheid van in de handel verkrijgbaar te gebruiken, en verhoogde productie. Trekkend van zijn deskundigheid inzake groeperingssystemen, kenmerkt stepper van de uv-NUL van EVG de nauwkeurigheid van de submicrongroepering, resulterend in betere opbrengst evenals apparatenprestaties.

„Wij blijven de envelop in micro-optica onderzoek duwen, en aangezien zulke apparatuur partners zoeken die flexibel aanbieden, zeiden de innovatieve, nog rendabele systemen die ons op de snijkant houden,“ Dr. Peter Dannberg, groepsleider „micro-Optica Technologie“ van Fraunhofer IOF. „Na de evaluatie van oplossingen van verscheidene leveranciers van de nanoimprintlithografie, selecteerden wij uiteindelijk het systeem van EVG na positieve manifestatieresultaten evenals voor zijn superieure micro-lens beheersende en nanoimprinting mogelijkheden. De procesflexibiliteit zijn stepper van de uv-NUL aanbiedingen is een significante waarde eveneens toevoegt aangezien het ons van de capaciteit voorziet om het voor een verscheidenheid van toepassingen te gebruiken.“

„Deze kans aan partner met een onderzoekinstituut van bellwether zoals Fraunhofer IOF is significant aan ons op vele niveaus,“ nam nota van Dr. Thomas Glinsner, hoofd van productbeheer voor Groep EV. De „geschiedenis van EVG wordt diep wortel geschoten in het dienen van de milieu's van R&D waar er een behoefte aan krachtige hulpmiddelen is die flexibel en rendabel zijn. Samenwerken nauw met de universiteiten en de instellingen van R&D is hoe wij onze zaken begonnen, en in de loop van de jaren, heeft het nieuwe markten die voor EVG geopend, ons toelaten om in technologieën van de kleutertijd van R&D door high-volume introductie op de markt worden geïmpliceerd. Wij zijn opgewonden om met een wereld-beroemd instituut zoals Fraunhofer te werken, en zich op de opwindende nieuwe kansen verheugen ons vennootschap kan brengen.“

De lithografie van Nanoimprint bereikt goedkeuring in leading-edge R&D voor diverse apparaten met inbegrip van wafeltje-vlakke camera's, waar de lagere productiekosten zonder patroontrouw te offeren zeer belangrijk zijn aan het ontmoeten van de eisen van markten zoals mobiele telefoons en optica. EVG is actief in uv-NUL sinds 1997, geweest en sindsdien met diverse de industriepartners en de instellingen van R&D bij het ontwikkelen van nanoimprinting technologieën gewerkt. Onder zijn high-volume klant die is de basis Zevenhoek Micro-Optics Pte Ltd. in Singapore, dat Aligner van de IQ van EVG voor high-volume microlens productie selecteerde in Juli 2008 wordt aangekondigd.

Last Update: 14. January 2012 06:33

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit