Oxford Instruments complace en anunciar el lanzamiento de CrystalFlex. Este multi-hidruro de obleas de vapor Fase epitaxia (HVPE) reactor proporciona un excelente control del crecimiento epitaxial, y ofrece una vía rentable para la producción de alta calidad, libre de fisuras epitaxial de GaN, AlN AlGaN y materiales de un solo cristal.
Como una empresa líder en el mundo que cuentan con más de 25 años de experiencia en el desarrollo de los procesos de HVPE y técnicas para la producción de la novela de Grupo semiconductores compuestos III nitruros.
Este equipo está diseñado para la I + D o la producción a gran escala del Grupo de nitruros III con el enfoque en la estabilidad del proceso, la reproducibilidad, y la utilización óptima de los materiales de consulta. La configuración del reactor flexible permite a los usuarios finales a cultivar una variedad de nitruros Grupo III con diferentes espesores.