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Veeco Stellt Erste Produktion-Erwiesene der CVD-Anlage der Industrie für Fordernde Konforme Startwert- Für ZufallsgeneratorSchicht-Anwendungen vor

Published on May 18, 2009 at 9:40 AM

Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO), stellt das Aktivieren von Lösungen für Abnehmer im HB-LED, der Solar-, Datenspeicher, Halbleiter, wissenschaftliche Forschung und industriellen die Märkte her, heute angekündigt, dass es die NEXUS® CVD-Anlage vorgestellt hat, die erste Produktion-erwiesene chemische Bedampfenanlage (CVD) der Industrie für fordernde konforme Startwert- für Zufallsgeneratorschichtanwendungen. Die VERBINDUNG CVD-Anlage aktiviert die Fertigung von Dünnfilmmagnetköpfen der magnetischen Aufzeichnung (PMR) der nächsten Generation Senkrecht (TFMH)mit Flächendichten größere als 400 Gb/in2.

Robert P. Oates, ExekutivVizepräsident, kommentiert, „In Erwiderung auf den Bedarf des Marktes an einem konformen Metallabsetzungsprozeß, eine neue Generation von PMR zu aktivieren geht, Veeco zusammenarbeitete mit einem führenden Dünnfilmkopfhersteller, um die VERBINDUNG CVD-Anlage zu entwickeln voran. Infolge dieser erfolgreichen Zusammenarbeit werden mehrfache Veeco-VERBINDUNG CVD-Anlagen aktuell in TFMH-Produktion an einem führenden Hersteller des Festplattenlaufwerks verwendet, und wir jetzt starten ihn offiziell zum breiteren Markt. Darüber hinaus freut sich Veeco, anzukündigen, dass ein zweiter Festplattenlaufwerkshersteller hat vergeben einen Auftrag für eine VERBINDUNG CVD-Anlage.“

James T. Jenson, Vizepräsident des Marketings, hinzugefügt, „das VERBINDUNG CVD-Hilfsmittel ist ein großes Beispiel von Veecos Annäherung an Technologiestraßenkarten unserer Datenspeicher-Abnehmer, da sie investieren in erhöhter Flächendichte und preiswerter von den Besitzlösungen.“ Als Teil Veecos der VERBINDUNGS-Familie kann die VERBINDUNG CVD-Anlage auf allgemeinen Kleinteilen und einer Software-Plattform mit ergänzenden Veeco-Technologien, wie Ionenträgerätzung, Ionenträgerabsetzung und körperlichem Bedampfen integriert sein.

Last Update: 14. January 2012 05:31

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