Veeco Introduce el Primer Sistema Producción-Probado del CVD de la Industria para las Aplicaciones Conformales Exigentes de la Capa del Germen

Published on May 18, 2009 at 9:40 AM

Veeco Instruments Inc. (Nasdaq: VECO), fabrica la activação de las soluciones para los clientes en el HB-LED, almacenamiento solar, de datos, semiconductor, investigación científica y mercados industriales, anunciados hoy que ha introducido el Sistema del CVD de NEXUS®, el primer sistema producción-probado de la deposición del vapor químico (CVD) de la industria para las aplicaciones conformales exigentes de la capa del germen. El sistema del CVD del NEXO activa la manufactura de las cargas magnéticas perpendiculares de la película fina (PMR) del registro magnético de la generación siguiente (TFMH) con las densidades regionales mayores de 400 Gb/in2.

Roberto P. Oates, Vicepresidente Ejecutivo, comentado, “En respuesta a la necesidad del mercado de un proceso conformal de la deposición del metal de activar una nueva generación de PMR dirige, Veeco colaboró con un fabricante de cabeza de la carga de la película fina para desarrollar el sistema del CVD del NEXO. Como resultado de esta colaboración acertada, los sistemas múltiples del CVD del NEXO de Veeco se están utilizando actualmente en la producción de TFMH en un fabricante de cabeza de la unidad de disco duro, y ahora lo estamos lanzando oficialmente al mercado más amplio. Además, Veeco está satisfecho anunciar que un segundo fabricante de mecanismo impulsor duro ha puesto una pedido para un sistema del CVD del NEXO.”

James T. Jenson, Vicepresidente del Márketing, adicional, “La herramienta del CVD del NEXO es un gran ejemplo de la alineación de Veeco con los mapas itinerarios de la tecnología de nuestros de datos clientes del almacenamiento pues invierten en densidad regional creciente y más barato de soluciones de la propiedad.” Como parte de la familia del NEXO de Veeco, el Sistema del CVD del NEXO puede ser integrado en una dotación física común y una plataforma de programación con las tecnologías complementarias de Veeco, tales como grabado de pistas del haz de ión, deposición del haz de ión y deposición de vapor física.

Last Update: 17. January 2012 00:22

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