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Veeco公司推出业界首个生产验证的CVD系统要求保形种子层应用

Published on May 18, 2009 at 9:40 AM

威科仪器公司(纳斯达克股票代码:VECO) ,制造商今天宣布,它已经推出的Nexus ® CVD系统,行业的第一家生产使高亮度LED,太阳能,数据存储,半导体,科研和工业市场,为客户提供解决方案成熟的化学汽相淀积(CVD)的系统要求形种子层的应用程序。 NEXUS的CVD系统,使面密度大于400 Gb/in2制造新一代垂直磁记录(PMR)薄膜磁头(TFMH)。

罗伯特P.奥茨,执行副总裁,评论说,“在应对市场的需要为形的金属沉积过程,使新一代的PMR磁头,Veeco公司与一家领先的薄膜头制造商合作开发的NEXUS CVD系统。多个Veeco的NEXUS的CVD系统作为这一成功合作的结果,是目前正在使用TFMH生产领先的硬盘驱动器制造商,和我们现在正式启动,到更广阔的市场。此外,Veeco公司很高兴地宣布,第二个硬盘驱动器制造商已经把一个NEXUS CVD系统命令。“

,营销副总裁,詹姆斯T.简森说,“Nexus的CVD工具是Veeco的对准我们的数据存储客户的技术路线图的一个很好的例子,因为他们在提高面密度和更低的所有权解决方案的成本投资”的一部分Veeco的NEXUS系列产品,Nexus的CVD系统可以集成在一个通用的硬件和软件平台与互补威科技术,如离子束刻蚀,离子束沉积和物理气相沉积。

Last Update: 9. October 2011 10:28

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