ПО Workbench NanoMaker от Разрешений SEMTech автоматически производит runfile Влияния Близости Исправленное, совместимо с системами NPGS, для SEM-основанного литографирования луча электронов.
Микрорисунок SEM 20nm выравнивается, тангаж 50nm который выделяет очень стабилизированную и плотную структуру HSQ используя оптимальные дозы обеспеченные ПО NanoMaker. HSQ сопротивляют толщине 180nm.
Заново конструированное ПО NanoMaker успешно было продемонстрировано на Лаборатории Внедрения Nanoscale, Техасском Университете на Далласе. Платформа аппаратных средств включила Электронный Кинескоп Скеннирования Излучения Поля 40 Zeiss Supra (SEM) с генератором картины NPGS 9,2.
Эксперимент состоял из изготовить 20nm и линии 25nm с 50nm и 100nm соорудили блоки, соответственно, отделенные большим твердым прямоугольником в середине. HSQ сопротивляют толщине на Si были 180nm. Перед использованием ПО Коррекции Влияния Близости (PEC) NanoMaker, много различных доз были попробованы для того чтобы изготовить структуру правильно без успеха. По использование ПО PEC NanoMaker, оптимальные дозы автоматически были заданы, данные ехпортированные к NPGS, и прибор успешно был изготовлен.
«Обычно, трудно изготовить плотные nanolines с более высокими коэффициентами сжатия из-за влияния близости,» Профессор Вальтер Hu положений, Лаборатории Внедрения Nanoscale на UTD, «Предварительные результаты NanoMaker которые показывают что своя способность получить вниз к равномерным линиям 20nm в ширине с тангажом 50nm замечателен.»
Электронные Кинескопы Скеннирования типично ограничены в напряжении тока ускорения к 30kV. Это где влияния близости доминантны. Для организаций которым нужно создать плотные nano-картины с SEM, конструкция NanoMaker и пакет программ PEC добавляет большущее значение к существуя системам NPGS.
«Мы признательны к Профессору Вальтеру Hu и его команде для позволять нам возможности доказать силу ПО NanoMaker,» Др. Sergey Zaitsev положений, CTO NanoMaker и Головка Теоретического Отдела на Институте Технологии Микроэлектроники - Русская Академия Наук (IMT RAS), «Мы смотрим вперед к продолжаемому партнерству с UTD и другим научно-исследовательским институтам интересуемым в изготовлении луча электрона/иона nanodevices и структур используя систему NanoMaker.»
NanoMaker мощная система ПО/оборудования для литографирования основанного SEM/FIB которое предназначено для современной конструкции и изготавливания микро- и nano электронных устройств и структур.