从NanoMaker工作台软件SEMTECH解决方案自动生成基于扫描电镜的电子束光刻，接近效应纠正runfile，与NPGS系统兼容。
20纳米线的SEM照片，50nm的间距，突出HSQ结构非常稳定，密集使用由NanoMaker软件所提供的最佳剂量。 HSQ抵制厚度为180纳米。
新设计的NanoMaker软件已成功地展示了在纳米尺度的集成实验室，美国德州大学达拉斯分校。硬件平台包括一个蔡司SUPRA 40场发射扫描电子显微镜（SEM）与NPGS 9.2码型发生器。
实验包括20纳米和25纳米线制造50nm和100nm的高亢的阵列，分别在中间的一个大的实心矩形分离，。 HSQ抵制在Si厚度为180纳米。之前使用的NanoMaker邻近效应校正（PEC）软件，许多不同的剂量，试图编造没有成功的结构是否正确。使用NanoMaker PEC的软件后，被自动分配的最佳剂量，已成功出口到NPGS的数据，和设备制造。
沃尔特胡教授，在UTD的纳米集成实验室“的初步NanoMaker结果显示其能力得到了统一的20nm的线条，”国家“通常情况下，这是很难编造由于邻近效应较高的长宽比密集nanolines 50nm的间距的宽度显着。“
在加速电压30kV的扫描电子显微镜通常是有限的。这是邻近效应占主导地位。对于需要用扫描电镜，NanoMaker设计和PEC软件包创建致密纳米模式的组织增添了巨大的价值，现有NPGS系统。
谢尔盖扎伊采夫博士，NanoMaker和微电子技术研究所理论部主任首席技术官 - 俄罗斯科学院“沃尔特胡教授和他的团队让我们有机会证明NanoMaker软件的力量，我们很感激，”国（IMT RAS）的科学，“我们期待着一个电子/离子束制造纳米器件和使用该NanoMaker系统的结构与UTD的和其他的研究有兴趣的机构继续合作。”
NanoMaker是一个功能强大的软件/硬件系统，是国家的最先进的微纳米电子器件和结构的设计和制造的SEM / FIB基于光刻。