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A Litografia de Vistec Introduz EBPG5200, a Versão A Mais Atrasada de sua Linha de Produtos de EBPG

Published on May 26, 2009 at 10:13 AM

A Litografia de Vistec apresenta a versão a mais atrasada de sua linha de produtos de EBPG. O EBPG5200 de Vistec caracteriza a tecnologia a mais avançada da litografia de feixe de elétron para a exposição das carcaças - dos fragmentos pequenos para terminar carcaças de 200mm.

O EBPG5200: Evolução um pouco do que a Revolução:
O Vistec EBPG5200 representa a fase continuada da revelação da série bem sucedida do produto de EBPG. Com melhorias adicionadas na definição, na redução de ruído, e na estabilidade, o Vistec EBPG5200 é mesmo melhor adaptado às exigências diversas e crescentes da nanotecnologia da ciência e da pesquisa nos centros das universidades, os académicos e os indústria-relacionados de pesquisa.

O Vistec EBPG5200 permite usuários de endereçar uma multidão de campos da aplicação, tais como a nanotecnologia, a biotecnologia, o sistema ótico integrado, a segurança, a pesquisa do semicondutor, o sistema ótico do Raio X, a engenharia de MEMS e de sensor ao nome mas as algumas deles. Benefício de usuários do sistema de Vistec EBPG5200 de mais de trinta anos de experiência que Vistec ganhou no negócio da litografia de feixe de elétron. Isto é demonstrado claramente por uma grande base estabelecida de sistemas de EBPG instalou actualmente no mundo inteiro.

Investimento Seguro para o Futuro:
Um conceito “modular” para características e necessidades de usuário funcionais é o coração do esquema EBPG5200. O Vistec EBPG5200ES (Sistema da Entrada) é a versão básica rentável da série EBPG5200. Promover ao máximo a funcionalidade EBPG5200 pode ser executado a qualquer hora, segundo o orçamento disponível do usuário e as exigências de aplicação. Este conceito altamente flexível facilita a adaptação às exigências as mais atrasadas e às necessidades futuras da aplicação ao oferecer os vários módulos do retrofit que são fixados o preço disponìvel.

Plataforma Prolongada:
O Vistec EBPG5200 é equipado com uma plataforma alterada que apoie a exposição completa das carcaças a um tamanho máximo de 200mm. Como as ferramentas precedentes de EBPG, pode ser usado para expr fragmentos e carcaças especiais além do que tipos e tamanhos padrão da carcaça. Os princípios de projecto Essenciais dos sistemas precedentes de EBPG foram incorporados nesta plataforma nova de 200mm.

Litografia da Vanguarda:
Com realces mais adicionais na definição, a redução de ruído e a estabilidade do feixe, o Vistec EBPG5200 são ajustadas para gerar estruturas menos do que 8nm em carcaças de qualquer tamanho e tipo. Sua coluna elétron-óptica (fonte de TFE) é avaliado para tensões de aceleração de 20, de 50, e de 100kV. Com o EBPG5200 Vistec oferece o desempenho verdadeiro de 100kV/1mm sob circunstâncias elétron-ópticas regulares.

Contudo, o que faz a litografia de feixe de elétron de Vistec dos padrões superiores realmente possíveis é o fósforo perfeito dos vários componentes de sistema tais como a coluna elétron-óptica, a plataforma de hardware, o processador de dados e o motor da exposição trabalhando junto em um sistema flexível e de fácil utilização.

Um exemplo, como este se relaciona à prática é a estruturação de portas finas e de umas almofadas mais grosseiras do conector em disposições do transistor. Rachando o trabalho em uma estratégia grosseira e fina da escrita, a produção pode ser maximizada. Tais portas de sub-50nm podem ser estruturadas para ser executado na exposição a melhor actual e nas almofadas mais grosseiras expor com um maior actual de feixe útil do que 100nA e uma taxa máxima da deflexão de 50MHz em uma exposição automática dão um ciclo. Comutar entre a definição e a produção ultra-altas ocorre em uma base de flutuação e é automatizada inteiramente. Nenhuma intervenção manual é exigida, se na coluna elétron-óptica ou em termos da seqüência do programa.

Operação Simples - o Fexibility O Mais Alto:
O sistema incorpora uma interface de utilizador gráfica interactiva (GUI) que forneça a acessibilidade para “multi ambientes de usuário diversos”, como exigido frequentemente no caso das grandes equipes do usuário. O EBPG5200 tem um carga-fechamento provado e seguro. Com uma capacidade de terra arrendada máxima de dez iguais ou de suportes diferentes da carcaça, o carga-fechamento pode acomodar uma variedade de tamanhos e tipos da carcaça como necessário para a tarefa particular da aplicação. Com este modo de operação altamente automatizado, os usuários podem igualmente costurar a exposição que arranja em seqüência a suas exigências específicas. Além Disso, o sistema inclui o software operacional baseado LINUX e o usuário pode escolher seu esquema preferido da preparação de dados.

Os EBPG5200 - O Sistema de Escolha para o Feixe de Elétron Nanolithography:
O EBPG5200 representa um sistema de modelação da litografia de feixe de elétron do elevado desempenho para exigências de hoje e futuras da nanotecnologia. Com seus projecto evolucionário, especificação avançada, desempenho e software da litografia, assim como com seus flexibilidade da carcaça, pegada compacta, e serviço de apoio global excelente, o EBPG5200 é o sistema de escolha para todas as aplicações actuais e futuras da nanotecnologia

Last Update: 14. January 2012 02:30

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