Литографирование Vistec Вводит EBPG5200, Самую Последнюю Версию своей Номенклатуры Товаров EBPG

Published on May 26, 2009 at 10:13 AM

Литографирование Vistec представляет самую последнюю версию своей номенклатуры товаров EBPG. EBPG5200 Vistec отличает самой предварительной технологией литографированием луча электронов для выдержки субстратов - от малых частей для того чтобы завершить субстраты 200mm.

EBPG5200: Развитие вернее чем Виток:
Vistec EBPG5200 представляет продолжаемый этап обработки успешной серии продукта EBPG. С добавленными улучшениями в разрешении, уменьшении шума, и стабилности, Vistec EBPG5200 даже лучше приспособленное к разнообразным и все больший и больший требованиям к нанотехнологии науки и исследования на университетов, академичных и индустри-родственных исследовательскийа центр.

Vistec EBPG5200 позволяет пользователи адресовать множество областей применения, как нанотехнология, биотехнология, интегрированная оптика, обеспеченность, исследование полупроводника, оптика Рентгеновского Снимка, инженерство MEMS и датчика к имени но несколько из их. Пользователи системы Vistec EBPG5200 извлекали пользу больше чем 30 лет опыта которые Vistec приобретал в деле литографированием луча электронов. Это ясно продемонстрировано большим установленным основанием систем EBPG в настоящее время установило всемирно.

Надежное Вложение Капитала на Будущее:
«Модульная» принципиальная схема для функциональных характеристик и потребностей пользователя сердце схемы EBPG5200. Vistec EBPG5200ES (Система Входа) эффективный стоимостью основной вариант серии EBPG5200. Модернизировать к полной функциональности EBPG5200 может быть выполнен в любое время, в зависимости от бюджети и прикладных требований пользователя доступного. Эта сильно гибкая принципиальная схема облегчает приспособление к самым последним требованиям и будущим потребностям применения пока предлагающ различные модули retrofit которые допустимо оценены.

Выдвинутая Платформа:
Vistec EBPG5200 оборудован с доработанной платформой которая поддерживает полную выдержку субстратов к максимальному размеру 200mm. Как предыдущие инструменты EBPG, его можно использовать для того чтобы подвергнуть действию части и специальные субстраты в дополнение к стандартным типам и размерам субстрата. Необходимые основы конструирования предыдущих систем EBPG были включены в эту новую платформу 200mm.

Литографирование Ведущей Кромки:
С более дополнительными повышениями в разрешении, уменьшение шума и стабилность луча, Vistec EBPG5200 установлены для того чтобы произвести структуры более менее чем 8nm на субстратах любых размера и типа. Своя электрон-оптически колонка (источник TFE) расклассифицирована для напряжений тока ускорения 20, 50, и 100kV. С EBPG5200 Vistec предлагает истинное представление 100kV/1mm под регулярн электрон-оптически условиями.

Однако, что делает литографирование луча электронов Vistec главных стандартов фактически возможных совершенная спичка различных элементов системы как электрон-оптически колонка, платформа аппаратных средств, устройство для обработки данных и двигатель выдержки работая совместно в гибкой и дружественной системе.

Один пример, как это относит к практике составлять точных стробов и более грубых пусковых площадок разъема в блоках транзистора. Путем разделять работу в грубую и точную стратегию сочинительства, объём можно увеличить. Такие стробы sub-50nm можно составить для того чтобы работать на оптимальной выдержке настоящей и более грубых пусковых площадках, котор подвергли действию с полезным током пучка лучей более большим чем 100nA и максимальный тариф отклонения 50MHz в автоматической выдержке задействуют. Переключать между ультравысокими разрешением и объём происходит на плавая основание и полно автоматизирован. Никакая ручная интервенция, необходима ли на электрон-оптически колонке или оперируя понятиями последовательности программы.

Простая Деятельность - Самое Высокое Fexibility:
Система включает взаимодействующий графический интерфейс пользователя (GUI) который предусматривает легкий в использовании для разнообразных «multi окружающих сред пользователя», как часто необходима в случае больших команд пользователя. EBPG5200 имеет доказанный и надежный нагрузк-замок. С максимальной емкостью удерживания 10 равного или различных держателей субстрата, нагрузк-замок может приспособить разнообразие размеры и типы субстрата по необходимости для определенной задачи применения. С этим сильно автоматизированным режимом деятельности, пользователи могут также портняжничать подвержение sequencing к их специфическим требованиям. Furthermore, система включает ПО основанное ЛИНУКС рабочее и пользователь может выбрать его предпочитаемую схему подготовки данных.

EBPG5200 - Система Выбора для Луча Электронов Nanolithography:
EBPG5200 представляет систему литографированием луча электронов высокой эффективности делая по образцу для сегодняшних и будущих требований к нанотехнологии. С своими постепеновской конструкцией, предварительной спецификацией, представлением и ПО литографированием, так же, как с своими гибкостью субстрата, компактным следом ноги, и превосходной сервисной поддержкой глобального сервиса, EBPG5200 система выбора для всех настоящих и будущих применений нанотехнологии

Last Update: 14. January 2012 05:14

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit