Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Единственная Медная Технология Низложения Барьера/Семени Квалифицировала для 32 и Продукции 22nm

Published on May 31, 2009 at 7:32 PM

Прикладной Материалы, Inc., глобальный руководитель в разрешениях Nanomanufacturing Technology™ с обширным портфолио новаторского оборудования, обслуживания и продуктов программного обеспечения для изготовления обломоков полупроводника, плоских экранов, солнечных фотогальванических элементов, гибкой электроники и стекла энергии эффективного, сегодня запустило свою Прикладную систему Endura® CuBS RFX PVD, единственный медный барьер/технологию низложения семени квалифицированную для 32 и продукции 22nm изготовлениями логики и флэш-память. Здание на водительстве Applied's 10-летнем в этом критическом медном процессе соединения, система Endura CuBS RFX расширяет свою доказанную, что, рентабельную технологию PVD* обеспечил исключительнейшие охват шага и герметичность слоя семени - на до 40% более недорогом в вафлю чем состязаясь технологии.

Система Endura CuBS RFX PVD поставляет исключительнейшие охват шага и герметичность слоя семени для приборов sub-45nm на до 40% более недорогом в вафлю. (Фото: Провод Дела)

«Будущее шкалирование меди соединяет быть в зависимости от находя надежное, рентабельный путь депозировать слои барьера и семени под 45nm,» сказал Стив Ghanayem, недостаток - президент и генеральный директор Низложение Металла Прикладных Материалов' и Передняя Организационная Единица Конечной Продукции. «Система Endura CuBS RFX PVD позволяет клиенты удлинить их существующие потоки процесса для других поколений 2 приборов с робастной, продукци-доказанной технологией PVD, и во избежание риск к их производственным линиям которые недоказанные и дорогие новые схемы внедрения смогли представить.»

Эффективное низложение слоя барьера и семени критическое к убеждать скорости и надежности медных соединений, в виду того что оно предотвращает медную диффузию и обеспечивает слой нуклеации качества для последующего навального медного заполнения. Ключ к высокой эффективности новой системы Endura CuBS RFX своя новая камера процесса семени Cu EnCoRe™ II RFX. Использующ романную траекторию магнетрона и собственническую систему управления потока иона для того чтобы увеличить охват и словотолкование фильма, процесс поставляет ровную, непрерывное семя наслаивает для пуст-свободного медного заполнения зазора и оптимизированной надежности прибора.

Система Endura CuBS PVD прорыва Applied's, запущенная в 1997, включила главное перескакивание вперед в возможности низложения барьера/семени путем интегрировать полную последовательность на одиночной, платформу глубокого вакуума. С почти 500 медными системами барьера/семени в пользе подавляющим большинством медных изготовлений обломока всемирных, Прикладной демонстрирует свою способность расширить рентабельную технологию PVD над множественными поколениями технологии.

Для больше информации, посещение www.appliedmaterials.com/products/endura_cubs_rfx_4.html.

* PVD = физическое низложение пара

Last Update: 14. January 2012 04:43

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit