Carl Zeiss, Zum des Produktes für die Halbleiter-Industrie Zu Vertreiben Entwickelt durch ZUFALL

Published on June 2, 2009 at 4:59 AM

Die Halbleiter-Metrologie-Anlagen-Abteilung (SMS) von Carl Zeiss SMT verstärkt seine Partnerlieferung mit dem basierte FirmaDresdens ZUFALL.

Lothar Andritzke (Direktor ZUFALL), Dr. Oliver Kienzle (Direktor Carl Zeiss SMS), Dr. Steffen Pollack (Direktor ZUFALL) (1. Reihe von links nach rechts) während des Kennzeichnens der Vereinbarung unterstützt von C. Sänn, Dr. A. Zibold, C. Ehrlich (Carl Zeiss SMS) (2. Reihe von links nach rechts).

Beide Firmen haben eine Vereinbarung unterzeichnet, welche SMS die alleinige Verkaufsvertretung von einem neuentwickelten „Pellicle-Ausbau-Hilfsmittel“ für Fotomasken macht. Die Anlage aktiviert den automatischen und leichten Ausbau von pellicles von den Fotomasken, die in der Halbleiterherstellung verwendet werden. Solche pellicles sind grundlegend, die empfindlichen Fotomasken vor Verunreinigung zu schützen. Die Vereinbarung markiert einen erfolgreichen Meilenstein in den laufenden R&D-Zusammenarbeiten zwischen SMS und ZUFALL wie die Entwicklung des Fotomasken-Registrierungshilfsmittels der nächsten Generation PRÜFEN.

„Wir sind glücklich, im ZUFALL einen innovativen zuverlässigen Partner gefunden zu haben, dessen Kompetenzen ergänzen unsere tadellos.“ Zustände Dr. Oliver Kienzle, Direktor der SMS-Abteilung. „Die Anlage aktiviert unsere Abnehmer, den Reinigungsprozeß von sehr empfindlichen Fotomasken zu verbessern, die die Hilfen, zum von Erträgen zu verbessern und von Kosten deshalb zu sparen“.

Der Firma-ZUFALL entwickelt spezielle Lösungen für Wafer und Substratflächen in der Mikroelektronische Industrie- und Mikroanlagentechnik.

„Die Zusammenarbeit mit Carl Zeiss erzeugt starke Synergien für beide Firmen. Wir können an den weltweiten Verkäufen und am Informationsnetz der SMS-Abteilung sowie an ihrer umfassenden Sachkenntnis in der Halbleiterindustrie teilnehmen. SMS kann seine Abnehmer in der Maske bereitstellen, die macht Industrie eine neue Technologie ohne ihre eigene R&D-Bemühung.“ erklärt Dr. Steffen Pollack, Direktor ZUFALL.

Das Hilfsmittel löscht automatisch das pellicle von einer Fotomaske, indem es ein engagiertes Thermal- und Kraftrezept auf die pellicle Befestigung zutrifft. Diese Technologie ist, da sie die Nachteile manuellen pellicle Standardausbaus wie Maskenverunreinigung beseitigt, oder im schlimmsten Fall zum Verschrotten der Maske in hohem Grade günstig. Da Fotomasken die kompletten strukturellen Informationen von integrierten Schaltungen tragen, sind sie ein Schlüsselelement in der Halbleiterherstellung.

Last Update: 14. January 2012 03:58

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