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Carl Zeiss Para Distribuir el Producto para la Industria del Semiconductor Desarrollada por el HAP

Published on June 2, 2009 at 4:59 AM

La División de Sistemas de la Metrología del Semiconductor (SMS) de Carl Zeiss SMT fortalece su nave del socio con el HAP de la compañía basada de Dresden.

Lothar Andritzke (Director de Gerente HAP), el Dr. Oliverio Kienzle (Director de Gerente Carl Zeiss SMS), el Dr. Steffen Pollack (Director de Gerente HAP) (1ra fila de izquierda a derecha) durante la firma del acuerdo utilizado por C. Sänn, el Dr. A. Zibold, C. Ehrlich (Carl Zeiss SMS) (2da fila de izquierda a derecha).

Ambas compañías han firmado un acuerdo que hacía SMS el distribuidor exclusivo “de una Herramienta recientemente desarrollada del Retiro de Pellicle” para los photomasks. El sistema activa el retiro automático y apacible de pellicles de los photomasks usados en la fabricación del semiconductor. Tales pellicles son fundamentales proteger los photomasks sensibles contra la contaminación. El acuerdo marca una piedra miliaria acertada en las colaboraciones en curso del R&D entre SMS y el HAP tal como el revelado de la herramienta de la inscripción del photomask de la generación siguiente PRUEBA.

“Somos felices de haber encontrado en HAP a un socio seguro innovador, cuyas capacidades complementan los nuestros perfectamente.” el Dr. Oliverio Kienzle, Director de los estados de Gerente de la División de SMS. “El sistema permite a nuestros clientes mejorar el proceso de la limpieza de los photomasks altamente sensibles, que las ayudas para mejorar rendimientos y por lo tanto para salvar costos”.

El HAP de la compañía desarrolla las soluciones especiales para el fulminante y los substratos en la técnica de la industria microelectrónica y del sistema micro.

“La cooperación con Carl Zeiss genera las sinergias fuertes para ambas compañías. Podemos participar en las ventas y la red de servicio mundial de la División de SMS así como su experiencia completa en la industria del semiconductor. SMS puede proporcionar a sus clientes en la máscara que hace industria una nueva tecnología sin su propio esfuerzo del R&D.” explica al Dr. Steffen Pollack, Director de Gerente HAP.

La herramienta quita automáticamente el pellicle de un photomask aplicando una receta dedicada la termal y de la fuerza al montaje del pellicle. Esta tecnología es altamente ventajosa puesto que elimina las desventajas del retiro manual estándar del pellicle tales como contaminación de la máscara, o en el peor de los casos a desechar de la máscara. Pues los photomasks llevan la información estructural completa de circuitos integrados, son un elemento clave en la fabricación del semiconductor.

Last Update: 14. January 2012 01:59

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