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Carl Zeiss Pour Distribuer le Produit pour l'Entreprise de Semiconducteurs Développée par le HASARD

Published on June 2, 2009 at 4:59 AM

La Division de Systèmes de Métrologie de Semi-conducteur (SMS) de Carl Zeiss SMT renforce son bateau d'associé avec le HASARD basé de compagnie de Dresde.

Lothar Andritzke (Directeur Général HASARD), M. Oliver Kienzle (Directeur Général Carl Zeiss SMS), M. Steffen Pollack (Directeur Général HASARD) (?ère ligne de gauche à droite) pendant la signature de la convention supportée par C. Sänn, M.A. Zibold, C. Ehrlich (Carl Zeiss SMS) (2ème ligne de gauche à droite).

Les Deux compagnies ont signé une convention effectuant à SMS l'allumeur exclusif « d'un Outil de Démontage de Pellicle » développé récemment pour des photomasks. Le système active le démontage automatique et doux des pellicles des photomasks utilisés à la fabrication de semi-conducteur. De Tels pellicles sont principaux pour protéger les photomasks sensibles contre la contamination. La convention marque une étape réussie en collaborations actuelles de R&D entre le SMS et le HASARD tel que le développement de l'outil d'inscription de photomask de prochain rétablissement S'AVÈRENT.

« Nous sommes heureux d'avoir fondé dans le HASARD un associé digne de confiance novateur, dont les compétences complètent le nôtre parfaitement. » M. Oliver Kienzle, Directeur Général de conditions de la Division de SMS. « Le système permet à nos abonnées d'améliorer le procédé de nettoyage des photomasks extrêmement sensibles, qui des aides pour améliorer des rendements et pour cette raison pour épargner des coûts ».

Le HASARD de compagnie développe les solutions spéciales pour le disque et les substrats dans la technique d'industrie microélectronique et de système micro.

« La coopération avec Carl Zeiss produit des synergies intenses pour les deux compagnies. Nous pouvons participer aux ventes et au réseau de service mondial de la Division de SMS ainsi qu'à leurs compétences complètes dans l'entreprise de semiconducteurs. Le SMS peut fournir ses abonnées dans le masque effectuant à industrie une technologie neuve sans leur propre effort de R&D. » explique M. Steffen Pollack, Directeur Général HASARD.

L'outil enlève automatiquement le pellicle d'un photomask en appliquant une recette dédiée de thermique et de force au support de pellicle. Cette technologie est hautement avantageuse puisqu'elle élimine les inconvénients de l'enlèvement manuel normal de pellicle tels que la contamination de masque, ou dans le pire des cas à la mise au rebut du masque. Car les photomasks diffusent l'information structurelle complète des circuits intégrés, ils sont un élément clé à la fabrication de semi-conducteur.

Last Update: 17. January 2012 01:20

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