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Carl Zeiss Per Distribuire Prodotto per Industria A Semiconduttore Sviluppata dal HAP

Published on June 2, 2009 at 4:59 AM

La Divisione di Sistemi della Metrologia A Semiconduttore (SMS) di Carl Zeiss SMT rinforza la sua nave del partner con il HAP della società basata di Dresda.

Lothar Andritzke (HAP) dell'Amministratore Delegato, Dott. Oliver Kienzle (Amministratore Delegato Carl Zeiss SMS), Dott. Steffen Pollack (HAP) dell'Amministratore Delegato (prima riga da sinistra a destra) durante la firma dell'accordo di supporto da C. Sänn, Dott. A. Zibold, C. Ehrlich (Carl Zeiss SMS) (seconda riga da sinistra a destra).

Entrambe Le società hanno firmato un accordo che rende a SMS il distributore esclusivo “di uno Strumento di Rimozione di Pellicle„ sviluppato di recente per i photomasks. Il sistema permette alla rimozione automatica e delicata dei pellicles dai photomasks utilizzati nella fabbricazione a semiconduttore. Tali pellicles sono fondamentali proteggere i photomasks sensibili da contaminazione. L'accordo traccia una riuscita pietra miliare nelle collaborazioni in corso di R & S fra SMS ed il HAP quale lo sviluppo dello strumento di registrazione del photomask della generazione seguente RISULTA.

“Siamo felici di trovare nel HAP un partner affidabile innovatore, di cui le competenze complementano perfettamente nostri.„ Dott. Oliver Kienzle, Amministratore Delegato degli stati della Divisione di SMS. “Il sistema permette ai nostri clienti di migliorare il trattamento di pulizia dei photomasks altamente sensibili, che guide per migliorare i rendimenti e quindi per comprimere i costi„.

Il HAP della società trova le soluzioni speciali per il wafer ed i substrati nella tecnica sistema del micro e dell'industria microelettronica.

“La cooperazione con Carl Zeiss genera le forti sinergie per entrambe le società. Possiamo partecipare alle vendite ed alla rete di servizio mondiale della Divisione di SMS come pure alla loro competenza completa nell'industria a semiconduttore. SMS può fornire ai sui clienti nella maschera che rende all'industria una nuova tecnologia senza loro proprio sforzo di R & S.„ spiega il Dott. Steffen Pollack, HAP dell'Amministratore Delegato.

Lo strumento rimuove automaticamente il pellicle da un photomask applicandosi una ricetta dedicata della forza e del termale al supporto del pellicle. Questa tecnologia è altamente vantaggiosa poiché elimina gli svantaggi di rimozione manuale standard del pellicle quale contaminazione della maschera, o nel peggiore dei casi alla rottamazione della maschera. Poichè i photomasks portano le informazioni strutturali complete dei circuiti integrati, sono un elemento chiave nella fabbricazione a semiconduttore.

Last Update: 17. January 2012 00:49

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