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Carl Zeiss Para Distribuir o Produto para a Indústria do Semicondutor Desenvolvida pelo HAP

Published on June 2, 2009 at 4:59 AM

A Divisão de Sistemas da Metrologia do Semicondutor (SMS) de Carl Zeiss SMT reforça seu navio do sócio com o HAP da empresa baseada de Dresden.

Lothar Andritzke (HAP), Dr. Oliver Kienzle do Director Administrativo (Director Administrativo Carl Zeiss SMS), Dr. Steffen Pescada Polaca (HAP) do Director Administrativo (?a fileira da esquerda para a direita) durante a assinatura do acordo apoiado por C. Sänn, Dr. A. Zibold, C. Ehrlich (Carl Zeiss SMS) (?a fileira da esquerda para a direita).

Ambas As empresas assinaram um acordo que faz a SMS o distribuidor exclusivo de “de uma Ferramenta recentemente desenvolvida da Remoção Pellicle” para photomasks. O sistema permite a remoção automática e delicada dos pellicles dos photomasks usados na fabricação do semicondutor. Tais pellicles são fundamentais proteger os photomasks sensíveis da contaminação. O acordo marca um marco miliário bem sucedido nas colaborações em curso do R&D entre SMS e o HAP tal como a revelação da ferramenta do registo do photomask da próxima geração PROVA.

“Nós estamos felizes ter encontrado no HAP um sócio seguro inovativo, cujas as competências complementem nossos perfeitamente.” Dr. Oliver Kienzle dos estados, Director Administrativo da Divisão de SMS. “O sistema permite nossos clientes de melhorar o processo da limpeza de photomasks altamente sensíveis, que as ajudas para melhorar rendimentos e conseqüentemente para salvar custos”.

O HAP da empresa desenvolve soluções especiais para a bolacha e as carcaças do micro sistema na técnica da indústria micro-electrónica e.

“A cooperação com Carl Zeiss gera sinergias fortes para ambas as empresas. Nós podemos participar nas vendas e na rede de serviço mundial da Divisão de SMS assim como em sua experiência detalhada na indústria do semicondutor. SMS pode fornecer seus clientes na máscara que faz a indústria uma nova tecnologia sem seu próprio esforço do R&D.” explica o Dr. Steffen Pescada Polaca, HAP do Director Administrativo.

A ferramenta remove automaticamente o pellicle de um photomask aplicando uma receita dedicada do thermal e da força à montagem do pellicle. Esta tecnologia é altamente vantajosa desde que elimina os inconvenientes da remoção manual padrão do pellicle tais como a contaminação da máscara, ou na pior das hipóteses a desfazer-se da máscara. Porque os photomasks levam a informação estrutural completa dos circuitos integrados, são um elemento chave na fabricação do semicondutor.

Last Update: 14. January 2012 01:54

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