SUSS MicroTec公司 ，三维集成，微机电系统，先进的封装和纳米技术市场的领先供应商的设备解决方案，推出MO曝光光学系统为手动和自动SUSS的掩模对准所有后代设计的一个新的照明系统。新的光学系统是基于独特的微透镜阵列的高光学质量，以提供更高的强度，提高了曝光光均匀度和定制照明塑造。这允许用户SUSS MicroTec公司面膜对准优化工艺窗口和加强接触和接近光刻产量。 MO曝光光学系统（专利待批）已独家开发SUSS的微光学，照明高品质的光纤解决方案的世界领先供应商，激光束整形，计量，医疗和视觉系统。
MO曝光光学系统提供照明设置库，包括所有已建立的SUSS MicroTec公司光刻设置（光学D型光学，LGO和人力资源），加上额外的设置，如环状照明，偶极，四极，多极和马耳他十字。由简单的照明滤板变化（IFP），用户可以选择的优化照明设置，以达到更高的过程纬度。将提供自动IFP的换热器生产面膜对准。一个自由选择的优化照明设置，如环照明孔和马耳他十字垂直线和水平线将增加深度对焦和曝光宽容度，同时降低了掩模误差因素。该系统还允许用户设计充分，为了照明，优化其特定层的工艺窗口。
“MO曝光光学系统是在提供高分辨率，即使是大的接近空白，为我们所有的面具对准产量提高了一大步向前”，SUSS MicroTec公司的光刻部总经理拉尔夫SUSS博士解释说。
MO曝光光学照明系统可用于所有手动和自动的面具对准立即发运。可以加装在该领域现有的SUSS MicroTec公司掩模对准。
“提供了可能性，新的MO曝光光学照明系统帮助我们的客户，以保护其在久经考验的光刻技术的投资来升级已安装的基础补充说：”弗兰克P. Averdung，SUSS MicroTec公司股份公司总裁兼首席执行官。 “这将使他们立即保存在这个充满挑战的经济环境的成本。”