Reducir la Hora de Fabricación para los Substratos Dirigidos Nanos

Published on June 4, 2009 at 9:00 AM

La capacidad de continuar el aumentar de la capacidad de conversión a escala del proceso de Nanolithography® de la Pluma del Declive (DPN®) ahora está siendo ayudada por un nuevo diseño de las matrices muy de alta densidad de la punta (VHD).

Joe Fragala, Vicepresidente del recurso del MEMS de NanoInk, declarado “quitando los voladizos permitió que pila de discos más puntas en aproximadamente la misma área que nuestro diseño de la pluma de la corriente 55.000. Tenemos diseños experimentales que son fabricados y probado que tengan millones de puntas y esto puede reducir la época de la fabricación para un substrato nano-dirigido a partir de más de 1 hora por el dispositivo solamente a algunos minutos.”

Este trabajo es el resultado de una combinación de los esfuerzos constantes internos de NanoInk de ascender masivo DPN paralelo y nuevo reciente, activando la tecnología para las puntas que moldean que se ha autorizado de la Universidad de Illinois, Chamán de Urbana.

Las matrices de la punta de VHD deben estar disponibles para los sistemas del DPN 5000, del NSCRIPTOR™ y del NLP 2000 de NanoInk en Q4 2009. Haga Contacto Con NanoInk para más información en sales@nanoink.net.

Last Update: 14. January 2012 01:59

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