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Diminuzione del Tempo Fabbricante per i Substrati Costruiti Nani

Published on June 4, 2009 at 9:00 AM

La capacità di continuare ad aumentare la scalabilità del trattamento di Nanolithography® della Penna della Immersione (DPN®) ora sta assistenda da una nuova progettazione delle schiere molto ad alta densità del suggerimento (VHD).

Joe Fragala, Vicepresidente della funzione del MEMS di NanoInk, specificato “rimuovendo le travi a mensola ha permesso che noi imballassimo più suggerimenti approssimativamente nella stessa area della nostra progettazione della penna della corrente 55.000. Abbiamo progettazioni sperimentali che sono da costruzione e provato che hanno milioni di suggerimenti e questo può ridurre il momento di montaggio per un substrato nano-costruito a partire da più di 1 ora per unità soltanto ad alcuni minuti.„

Questo lavoro è il risultato di una combinazione di sforzi di continuazione interni di NanoInk per promuovere in maniera massiccia DPN parallelo e nuovo recente, permettendo alla tecnologia per i suggerimenti di modellatura che è stata conceduta una licenza a dall'Università dell'Illinois, Champagne di Urbana.

Le schiere del suggerimento di VHD dovrebbero essere disponibili per i sistemi del DPN 5000, del NSCRIPTOR™ e del NLP 2000 di NanoInk in Q4 2009. Contatti NanoInk per più informazioni a sales@nanoink.net.

Last Update: 17. January 2012 00:31

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