减少纳诺设计的基体的制造的时刻

Published on June 4, 2009 at 9:00 AM

这个能力持续增加垂度笔 Nanolithography® (DPN®) 进程的可缩放性由新的设计非常高密度技巧列阵现在协助解决 (VHD)。

乔 Fragala, NanoInk 的 MEMS 设备的副总统,指明 “去除悬臂允许我们近似包装更多技巧到区和我们的当前 55,000 笔设计一样。 我们有有百万技巧被制造的实验设计,并且测试和这可能使一个纳诺设计的基体的制造时期降低从超过每个设备 1 时数到仅几分钟”。

此工作是 NanoInk 的内部继续努力的组合的结果大量促进并行 DPN 和最近新,启用从伊利诺伊大学被准许了,尔般那平原铸造的技巧的技术。

VHD 技巧列阵应该取得到为 NanoInk 的 DPN 5000, NSCRIPTOR™和 NLP 2000 系统在 Q4 2009年。 请与 NanoInk 联系对于更多信息在 sales@nanoink.net。

Last Update: 13. January 2012 22:10

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